[实用新型]一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统

说明书

本实用新型公开一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统，包括：吸收塔塔釜与粗溶剂缓冲罐、溶剂精制塔上部依次连接，溶剂精制塔塔釜与溶剂储罐连接；光气化反应器的顶部与吸收塔塔釜连接；光气化反应器塔釜与脱光气塔中部连接，脱光气塔和溶剂精制塔的顶部分别与脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器连接，该冷却器与脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐连接，该气液分离罐底部与溶剂精制塔上部连接，顶部与吸收塔塔釜连接，并设置排水管；脱光气塔塔釜与溶剂脱除塔上部连接，溶剂脱除塔的顶部与溶剂脱除塔顶冷却器连接，该冷却器与溶剂脱除塔顶气液分离罐连接，该气液分离罐底部与溶剂储罐连接，顶部与吸收塔塔釜连接。

技术领域

本实用新型属于化工领域，涉及一种生产装置除水系统，具体的涉及一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统。

背景技术

异氰酸酯广泛应用于家电、汽车、建筑、鞋业、家具、胶粘剂等行业。现有工业化生产异氰酸酯产品主要采用伯胺光气化法生产：首先使氯气和一氧化碳反应生成光气，其次使光气与有机胺在溶剂中反应生成异氰酸酯和氯化氢，再次将异氰酸酯和氯化氢从溶剂中分离出来。

光气化生产异氰酸酯装置的反应器、储槽、塔器等在高温高压下工作，存在因设备腐蚀而诱发中毒事故和火灾爆炸事故等风险，而系统中水分的存在是设备腐蚀最主要的原因。

由于异氰酸酯结构中含有不饱和键，因此具有高活性，与水反应生成胺和二氧化碳，胺进一步与异氰酸酯反应生成脲，造成异氰酸酯产品损失与质量下降。

光气化生产异氰酸酯装置在正常生产时，不易引入水分。水分主要是在停车后，设备打开检修等过程中引入系统。为了保证在光气进入装置时，装置水分能达到合理范围，满足生产要求，光气化生产异氰酸酯装置在开车初期必须采取方法降低系统中水分含量。

专利CN104311454A中公开了一种丙烯酸酯类化工产品用除水装置，该专利通过升华塔、冷凝器与与油水分离罐联合使用脱除副产物水，该专利未对油水分层效果及排水方法进行描述，未对整套装置系统排水进行描述，且升华塔采用填料塔，需要将甲苯溶液用泵输送回升华塔对填料进行洗涤，浪费能源。

尚未发现有技术文献公开异氰酸酯装置除水系统，因此，针对目前光气化生产异氰酸酯装置除水存在的问题，需要开发一种高效的光气化生产异氰酸酯装置除水系统。

实用新型内容

本实用新型目的是克服现有技术不足，提供一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统。在光气化生产异氰酸酯装置开车初期，使用溶剂在除水系统中运转，将系统中残留的水分溶解在溶剂中，溶剂回收利用，水分富集外排。既有效除去系统内的水分，满足生产要求，又高效节能，从而为装置争取更多的生产时间，提高装置运转率。

为了达到以上目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统，包括：吸收塔1、光气化反应器 2、光气化反应器塔釜再沸器10、脱光气塔3、脱光气塔釜再沸器11、溶剂脱除塔4、溶剂脱除塔釜再沸器12、溶剂脱除塔顶冷却器15、溶剂脱除塔顶气液分离罐8、粗溶剂缓冲罐6、溶剂精制塔5、溶剂精制塔釜再沸器13、脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14、脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9、溶剂储罐7；

吸收塔1上部设置吸收塔溶剂进料管16，吸收塔1塔釜底部通过液相管线与粗溶剂缓冲罐6连接，粗溶剂缓冲罐6与溶剂精制塔5上部连接，溶剂精制塔5的顶部通过气相管线与脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14连接，

溶剂精制塔5塔釜底部通过液相管线与溶剂储罐7连接；

光气化反应器2上部设置光气化反应器溶剂进料管17，光气化反应器2的顶部通过气相管线与吸收塔1塔釜连接；