[实用新型]一种烹饪装置及其上盖

说明书

本实用新型公开了一种烹饪装置及其上盖，该上盖包括基板组件和发热层，发热层为均匀且连续的膜，发热层结合于基板组件且不暴露于上盖的外表面，并且在通电时产生热量以实现对烹饪装置的腔体内的食材的加热。本实用新型通过在烹饪装置的上盖设置均匀且连续的发热层，能够在通电时产生热量以实现对烹饪装置的腔体内的食材的加热，并且其发热均匀性高，从而能够提高能量利用率；通过使得发热层不暴露于上盖的外表面，能够保护发热层，使其不易损坏，避免影响发热效果。

技术领域

本实用新型涉及厨房电器技术领域，特别涉及一种烹饪装置及其上盖。

背景技术

目前烹饪装置不仅需要对容置有食材的锅体进行加热，还需要对盖设于锅体上的上盖进行加热，从而实现对食材加热均匀，并加快对食材的加热速度。

本申请的发明人在长期的研发中发现，目前一般通过在上盖缠绕设置加热丝来实现上盖的加热，但是加热丝难以均匀分布在上盖上，从而会导致发热不均匀，并且其安装复杂，装配难度大，影响上盖的制备效率。

实用新型内容

本实用新型提供一种烹饪装置及其上盖，以解决现有技术中烹饪装置的上盖中发热不均匀的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是提供一种烹饪装置的上盖，所述上盖包括基板组件和发热层，所述发热层为均匀且连续的膜，所述发热层结合于所述基板组件且不暴露于所述上盖的外表面，并且在通电时产生热量以实现对所述烹饪装置的腔体内的食材的加热。

在一具体实施方式中，所述基板组件包括基板，所述发热层设置于所述基板远离所述烹饪装置的腔体的一侧。

在一具体实施方式中，所述基板组件包括相对设置的第一基板和第二基板，所述发热层设置于所述第一基板靠近所述第二基板和/或所述第二基板靠近所述第一基板的一侧。

在一具体实施方式中，所述第一基板与所述第二基板之间的距离大于0mm，且小于或等于5mm，所述第一基板与所述第二基板之间为真空状态或非真空状态。

在一具体实施方式中，所述发热层通过喷涂方式形成于所述基板组件上。

在一具体实施方式中，所述发热层为柔性或刚性发热膜，通过卡扣或粘贴方式固定于所述基板组件上。

在一具体实施方式中，所述基板组件的截面积为S，所述发热层的截面积为S1，其中，1/9S≤S1≤S。

在一具体实施方式中，所述发热层的功率密度为0.1W/cm²-5.5W/cm²，所述发热层在所述烹饪装置处于保温状态时的平均输出功率为10-60W。

在一具体实施方式中，所述发热层为PI(Polyimide，聚酰亚胺)发热膜、氧化烯发热膜、石墨烯发热膜或远红外发热膜。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的另一个技术方案是提供一种烹饪装置，所述烹饪装置包括上述的上盖。

本实用新型通过在烹饪装置的上盖设置均匀且连续的发热层，能够在通电时产生热量以实现对烹饪装置的腔体内的食材的加热，并且其发热均匀性高，从而能够提高能量利用率；通过使得发热层不暴露于上盖的外表面，能够保护发热层，使其不易损坏，避免影响发热效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，其中：

图1是本实用新型烹饪装置的上盖一实施例的结构示意图；

图2是图1中的上盖沿A-A方向的截面示意图；