[实用新型]一种薄膜电晕装置

说明书

本实用新型公开了一种薄膜电晕装置，包括放卷辊、连接放卷辊的放卷电机、与放卷辊配合的储料结构、与储料结构配合的送膜辊结构、用于对薄膜下表面进行电晕处理的下电晕结构、与下电晕结构配合的下冷却辊、用于对薄膜上表面进行电晕处理的上电晕结构、与上电晕结构配合的上冷却辊、用于牵引薄膜前进的收卷辊和连接收卷辊的收卷电机；送膜辊结构与下电晕结构配合，下电晕结构、下冷却辊和上电晕结构相互配合。本实用新型采用以上结构，仅满足了后续电晕拉薄膜的节拍要求，也对薄膜在开卷过程中可能受到的损伤降到最低。

技术领域

本实用新型涉及薄膜生产设备技术领域，具体涉及一种薄膜电晕装置。

背景技术

电晕处理是一种电击处理，它使承印物的表面具有更高的附着性。其原理是利用高频率高电压在被处理的塑料表面电晕放电，以致增加承印物表面的附着能力。现有的薄膜生产线在生产制造薄膜时一般都要采用电晕处理，使薄膜表面变粗糙，以便增加薄膜秸结时的牢度。而现有的电晕处理设备，拉伸薄膜过程中容易对薄膜造成伤害，而且经过电晕处理的薄膜表面在压棍上会严重发粘，温度会升高，导致和其接触的压膜辊温度过高，过高的粘度和温度将导致薄膜不平整、起皱或粘在压膜辊上，进而影响薄膜的生产质量和生产效率，需要对电晕后的薄膜进行冷却。

实用新型内容

本实用新型的目的在于公开了一种薄膜电晕装置，解决了现有薄膜电晕装置拉伸薄膜过程中容易对薄膜造成伤害，缺少冷却结构的问题。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种薄膜电晕装置，包括放卷辊、连接放卷辊的放卷电机、与放卷辊配合的储料结构、与储料结构配合的送膜辊结构、用于对薄膜下表面进行电晕处理的下电晕结构、与下电晕结构配合的下冷却辊、用于对薄膜上表面进行电晕处理的上电晕结构、与上电晕结构配合的上冷却辊、用于牵引薄膜前进的收卷辊和连接收卷辊的收卷电机；送膜辊结构与下电晕结构配合，下电晕结构、下冷却辊和上电晕结构相互配合。

进一步，所述储料结构包括储料盘、与放卷辊配合的第一导向辊和与第一导向辊配合的第二导向辊；第一导向辊和第二导向辊都位于储料盘上方，第二导向辊与所述送膜辊结构配合。

进一步，所述送膜辊结构包括送膜电机、连接送膜电机的送膜辊和与送膜辊配合的上压辊，所述薄膜从送膜辊和上压辊之间穿过。

进一步，所述下电晕结构包括上绝缘辊、设于上绝缘辊下方的第一电极放电装置和连接第一电极放电装置的第一无杆气缸；第一无杆气缸包括沿着Z向设置的第一气缸带和沿着第一气缸带位移的第一气缸滑块，第一气缸滑块连接第一电极放电装置；第一无杆气缸驱动第一电极放电装置升降，电晕时薄膜贴于上绝缘辊且从上绝缘辊和第一电极放电装置之间穿过。

进一步，所述上电晕结构包括下绝缘辊、设于下绝缘辊上方的第二电极放电装置和连接第二电极放电装置的第二无杆气缸；第二无杆气缸包括沿着所述Z向设置的第二气缸带和沿着第二气缸带位移的第二气缸滑块，第二气缸滑块连接第二电极放电装置；第二无杆气缸驱动第二电极放电装置升降，电晕时薄膜贴于下绝缘辊且从下绝缘辊和第二电极放电装置之间穿过。

进一步，所述第一电极放电装置和所述第二电极放电装置结构相同，第一电极放电装置包括高频发生器和连接高频发生器的电极系统。

进一步，所述下冷却辊和所述上冷却辊结构相同；下冷却辊包括冷却辊本体和第三无杆气缸，第三无杆气缸包括沿着所述Z向延伸的第三气缸带和沿着第三气缸带位移的第三气缸滑块，第三气缸滑块连接冷却辊本体。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果：

1、本实用新型采用储料结构，不仅满足了后续电晕拉薄膜的节拍要求，也对薄膜在开卷过程中可能受到的损伤降到最低。既不会由于放卷辊放料速度慢而造成对薄膜的拉扯，也不会由于储料结构速度过快，造成储料盘中大量料的堆积而在后续拖拽时对薄膜造成伤害。