[实用新型]一种磁材镀膜装置的旋转靶材

说明书

本实用新型涉及磁控溅射靶材技术领域，且公开了一种磁材镀膜装置的旋转靶材，包括第一靶材，第一靶材的右侧固定连接有第二靶材，第二靶材的右侧固定连接有第三靶材，第一靶材、第二靶材和第三靶材的底部活动连接有基座，基座顶部的两侧均开设有第一长槽，两个第一长槽内部的一侧均活动连接有L形板，L形板的数量为四个，且两个L形板为一组，两个L形板的底端均通过第一长槽活动套装于基座的内部。该磁材镀膜装置的旋转靶材，通过第一靶材、第二靶材和第三靶材之间的配合设置，同时通过靶材之间的四十五度斜角拼接技术，能够有效防止镀膜过程时出现整条缝隙没有靶材的现象，能够有效避免靶材提前损耗，从而提高靶材的利用率。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射靶材技术领域，具体为一种磁材镀膜装置的旋转靶材。

背景技术

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。

现有的磁控溅射的靶材是以多块直角拼接而成，使得直角连接处存在一条缝隙，在镀膜过程中会引起此处集弧，由于集弧处位于缝隙的上方，因此此处靶材会被提前损耗，降低了靶材的利用率，需要保证靶材不被提前损耗，为此我们提出一种磁材镀膜装置的旋转靶材。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种磁材镀膜装置的旋转靶材，具备避免靶材被提前损耗的优点，解决了靶材直角连接处上方出现集弧，导致靶材提前损耗的问题。

本实用新型提供如下技术方案：一种磁材镀膜装置的旋转靶材，包括第一靶材，所述第一靶材的右侧固定连接有第二靶材，所述第二靶材的右侧固定连接有第三靶材，所述第一靶材、第二靶材和第三靶材的底部活动连接有基座，所述基座顶部的两侧均开设有第一长槽，两个所述第一长槽内部的一侧均活动连接有L形板，所述L形板的数量为四个，且两个L形板为一组，两个所述L形板的底端均通过第一长槽活动套装于基座的内部，所述L形板的顶端延伸至第一靶材的内部，两个所述L形板的相邻两侧通过第一弹簧的两端固定连接，所述第一弹簧的数量为两个，所述L形板顶端的一侧活动套装有支撑板，所述支撑板的右端延伸至另一个L形板的内部，所述支撑板的数量为两个，所述L形板底端的正面固定安装有调节块，所述调节块的正面延伸至基座的外部，所述基座的内部开设有位于第一长槽下方的第二长槽，所述第二长槽内部的一侧固定安装有第二弹簧，所述第二弹簧的顶端固定连接有活动板，所述活动板的顶端延伸至L形板的内部，所述活动板的底端通过第二长槽活动套装于基座的内部，所述活动板的正面固定安装有圆柱块，所述圆柱块的正面延伸至基座的外部。

优选的，所述第一靶材和第三靶材的内部分别开设有第一凹槽和第二凹槽，四个所述L形板的顶端分别通过第一凹槽和第二凹槽活动套装于第一靶材和第三靶材的内部。

优选的，所述第二靶材、第一靶材和第三靶材之间采用四十五度拼接技术。

优选的，两个所述L形板顶端相邻两侧的内部均开设有第三长槽，所述支撑板的两端通过第三长槽活动套装于L形板的内部。

优选的，两个所述支撑板以上方的第一弹簧的轴心为对称中心相互对称。

优选的，所述第二长槽的数量为两个，两个所述第二长槽以第一长槽的轴心为对称中心相互对称。

与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：

1、该磁材镀膜装置的旋转靶材，通过第一靶材、第二靶材和第三靶材之间的配合设置，同时通过靶材之间的四十五度斜角拼接技术，能够有效防止镀膜过程时出现整条缝隙没有靶材的现象，能够有效避免靶材提前损耗，从而提高靶材的利用率。

2、该磁材镀膜装置的旋转靶材，通过第一长槽内部设置的L形板、基座、第一靶材和第三靶材之间的配合设置，实现将靶材和基座固定，通过第二长槽内部设置的第二弹簧和活动板之间的配合，能够利用第二弹簧的弹力，挤压活动板，防止L形板脱落，同时通过弹簧和L形板之间的配合，达到便于安装和拆卸靶材的效果。