[实用新型]一种大尺寸构件物理气相沉积喷嘴

说明书

本实用新型公开了一种大尺寸构件物理气相沉积喷嘴，它由入口段（1）与喷嘴座（2）构成，喷嘴座（2）由分配层（3）、第一空腔（4）、分配板（5）、第二空腔（6）和出口段（7）组成，分配层（3）由多块隔板（8）构成，隔板（8）的一端汇聚在入口段（1）与喷嘴座（2）的连接处，隔板（8）的另一端向外发散；在分配板（5）上开有若干小孔（9），分配板（5）置于第一空腔（4）和第二空腔（6）之间；出口段（7）为长窄的狭缝。本实用新型可以达到沉积流体均匀化的效果，从而增加均匀镀膜成功率，减少工业耗材，在大尺寸构件真空镀膜的过程中可以起到均匀化及提高喷射效率的作用。

技术领域

本实用新型涉及一种用于大尺寸构件镀膜过程的喷嘴，尤其是一种大尺寸构件物理气相沉积喷嘴，属于真空镀膜设备技术领域。

背景技术

当今，以物理气相沉积方式进行镀膜的装置被广泛使用于相机镜头、手机镀膜、车身镀膜等实际操作领域。随着需求量增加，目前用于大尺寸构件的物理气相沉积镀膜系统已逐步开始研发并实际运用于生产过程，然而，即使目前物理气相沉积已被广泛用于大尺寸构件用镀膜中，其仍旧存在一定的局限性与适用性。在使用原有喷嘴镀膜的过程中，其出口速度特征呈现边部均匀性尚可，中部速度偏大，从而导致镀膜过程中的中心镀膜厚度大于边部，这种非均匀镀膜减小了材料的可利用度，造成工业耗材浪费较多、次品率高等缺陷。为了提高物理气相沉积在大尺寸构件镀膜的应用范围，均匀镀膜局限性成为了首要需要解决的问题。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种大尺寸构件物理气相沉积喷嘴，从而提高大尺寸构件镀膜过程均匀化，克服上述现有技术的不足。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下的技术方案：

一种大尺寸构件物理气相沉积喷嘴，它由入口段与喷嘴座构成，所述的喷嘴座由分配层、第一空腔、分配板、第二空腔和出口段组成，所述的分配层由多块隔板构成，隔板的一端汇聚在入口段与喷嘴座的连接处，隔板的另一端向外发散；所述的分配板形状为长方体，在分配板上开有若干小孔，分配板置于第一空腔和第二空腔之间；所述的出口段为长窄的狭缝，出口段位于第二空腔的下方。

上述的大尺寸构件物理气相沉积喷嘴，作为一种优选方案，所述的入口段可以是圆形或方形截面的导管。

上述的大尺寸构件物理气相沉积喷嘴，作为一种优选方案，所述分配层的隔板可以为直线型或曲线型隔板。

上述的大尺寸构件物理气相沉积喷嘴，作为一种优选方案，所述分配板上的小孔在分配板的两端分布较密集，在分配板的中心分布较分散。

上述的大尺寸构件物理气相沉积喷嘴，作为一种优选方案，所述分配板上的小孔形状可以为圆形、方形或三角形。

本实用新型的有益效果：本实用新型通过改变喷嘴的外部与内部结构，改善喷嘴工作时的喷射方式，达到沉积流体均匀化效果，从而增加均匀镀膜成功率，减少工业耗材，提高实际真空镀膜的可实施性。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

1. 解决了大尺寸构件均匀喷镀难的问题。

2. 本喷嘴结构简单，加工方便。

3. 实现了由圆管向方形喷嘴的过渡，节省了耐材用量。

4. 实现了气体由低速达到音速及超音速，提高了喷涂效率和粘附强度。

5.喷嘴可用于大型的真空镀膜装置中，可以起到均匀化及提高喷射效率的作用。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的分配板结构示意图；

图3是本实用新型的隔板结构示意图；