[实用新型]光阻喷嘴装置有效
| 申请号： | 201920414839.8 | 申请日： | 2019-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN209433178U | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 李明欣;张祥平;古哲安;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/42;B05B9/03;B05B15/55 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 喷嘴 供料 光阻喷嘴 光阻溶液 清洗结构 本实用新型 回吸 喷涂 清洗控制阀 产品良率 喷涂均匀 喷嘴装置 清洗溶液 移动式光 成品率 可去除 控制阀 凝结物 光阻 晶圆 | ||
1.一种光阻喷嘴装置，其特征在于，所述光阻喷嘴装置包括：
喷嘴，通过所述喷嘴向晶圆喷涂光阻溶液；
供料结构，所述供料结构包括供料控制阀，所述供料结构与所述喷嘴相连接，通过所述供料结构为所述喷嘴提供所述光阻溶液；
清洗结构，所述清洗结构包括清洗控制阀，通过所述清洗结构为所述喷嘴提供清洗溶液。
2.根据权利要求1所述的光阻喷嘴装置，其特征在于：所述供料控制阀及所述清洗控制阀包括截止阀、止回阀中的一种或组合。
3.根据权利要求1所述的光阻喷嘴装置，其特征在于：所述清洗结构与所述喷嘴直接连接。
4.根据权利要求1所述的光阻喷嘴装置，其特征在于：所述清洗结构与位于所述供料控制阀及所述喷嘴之间的所述供料管相连接。
5.根据权利要求1所述的光阻喷嘴装置，其特征在于：所述清洗溶液包括OK73、PGMEA、PGME及去离子水中的一种或组合。
6.根据权利要求1所述的光阻喷嘴装置，其特征在于：所述光阻喷嘴装置还包括回吸结构。
7.根据权利要求6所述的光阻喷嘴装置，其特征在于：通过所述回吸结构的回吸，所述光阻溶液在所述喷嘴中的回吸距离的范围包括2mm～3mm。
8.根据权利要求1所述的光阻喷嘴装置，其特征在于：所述供料控制阀及所述清洗控制阀的调节方式包括手动调节及自动调节中的一种或组合。
9.根据权利要求1所述的光阻喷嘴装置，其特征在于：所述清洗结构还包括动力单元。
10.根据权利要求1所述的光阻喷嘴装置，其特征在于：所述光阻喷嘴装置包括固定式光阻喷嘴装置及移动式光阻喷嘴装置中的一种。
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