[实用新型]一种光学投影断层成像系统

说明书

本申请提供了一种光学投影断层成像系统，包括：光源模块、样品承载模块、信号采集模块和控制模块，还包括用于调整光源的调节装置，所述调节装置与所述光源模块配合设置，所述光源模块中包括外壳，所述外壳靠近所述样品承载模块的一侧设置有光源出口，所述调节装置设置于所述光源出口上。本申请中利用调节装置对光源进行调节，通过调节装置使得照射在样品上的光源的亮度，方向，光照范围是可以根据实际可调节的，有利于获得更好的成像效果。

技术领域

本申请涉及分子影像技术领域，具体涉及一种光学投影断层成像系统。

背景技术

光学投影断层成像(OPT)技术是利用光线在小尺寸生物体中沿直线传播的特点，发射可见光线穿透样本，或者采用激光激发样本产生荧光，然后用相机采集多个角度的样本投影视图，进行三维成像。具体来说，在进行光学投影断层成像时，需要对样本进行多角度扫描，一般采用电控转台对样本进行步进式旋转，每旋转到一个角度采集一幅或多幅投影图像。光学投影断层成像系统圆轨道扫描最终采集到的数据是一系列不同角度下光线穿过样本的二维投影图像，通过相应的重建算法便可得到三维图像。通过上述这种技术，实现高分辨率、结构功能一体化、无辐射的对小尺度对活体生物进行细胞水平的定性和定量研究，实现生物体的实时、无创、动态成像。

在CN102743159A中公开了一种光学投影断层成像系统，包括：光源模块，用于提供照射样本的白光或激光；样本承载定位模块，用于样本位置的调整以及带动样本旋转以采集多个角度的投影数据；信号采集模块，用于实现光信号的汇聚，对光信号进行选择性的采集；中央控制模块，用于协调各部分的有序运转，实现光源的开闭和强度调节，平移台的中心校正，旋转台的参数设置，EMCCD相机的参数设置，数据处理以及数据存储；设备外围模块，用于为成像提供一个抗干扰的稳定环境。该申请对于光源模块的照射角度、照射范围以及光源亮度等光照因素没有进行探究，但是光照对于成像结果具有很大影响。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本申请提供了一种光学投影断层成像系统，包括：光源模块、样品承载模块、信号采集模块和控制模块，还包括用于调整光源的调节装置，所述调节装置与所述光源模块配合设置，所述光源模块中包括外壳，所述外壳靠近所述样品承载模块的一侧设置有光源出口，所述调节装置设置于所述光源出口上。本申请中的光源模块用于提供照射样本的光源；样品承载模块用于样品的安装以及样品位置的调整；信号采集模块用于光信号的汇聚以及对光信号的选择采集；控制模块用于各个部件的有序运转，以及数据处理和数据储存。本申请中利用调节装置对光源进行调节，通过调节装置使得照射在样品上的光源的亮度，方向，光照范围是可以根据实际可调节的，有利于获得更好的成像效果。

进一步的，所述调节装置包括设置在光源出口上的移动板，所述移动板两侧与所述外壳相连，所述外壳上设置用于所述移动板上下滑动的滑槽，所述移动板上设置有横截面积不同的透光孔。本申请通过移动板的位置，对部分光线进行遮挡，用以调节光源，通孔的设置用于调节光线的透出范围和透出范围的调节。

进一步的，所述调节装置包括设置在所述光源出口的挡板，所述挡板两端通过连接件与所述外壳铰接相连，所述挡板为曲面设置，所述挡板上设置有若干照射角度不同的透光孔。挡板在光源出口处是可上下移动的，也可起到遮挡光线调整光源亮度的效果，挡板的曲面设置是为了根据实际需要将光源进行聚集或分散，通孔的设置是为了对光源的光照范围以及光照方向进行调节。

进一步的，所述光源模块包括激光装置，所述激光装置中按激光发射方向依次设置有激光发射部和激光处理部，所述激光处理部中按激光发射方向依次设置有包括光束匀化装置和光束准直装置。激光发射部用于发射激光，光束匀化装置用于消除光束在传导方向存在的固有像散，对光斑进行一定的匀化处理，光束匀化装置可以使用毛玻璃匀化片、工程散射片或光束匀化片等；激光准直装置使得发射的激光光线更加准直，激光准直装置可以采用非球面或自由曲面的正负透镜或普通透镜，对经过所述光束匀化装置后的光束进行整形。