[实用新型]晶圆寻边装置及晶圆刻蚀设备有效

专利信息
申请号: 201920424554.2 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN209496830U 公开(公告)日: 2019-10-15
发明(设计)人: 马风柱;栾剑峰;刘家桦;叶日铨 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 晶圆 旋转台 刻蚀设备 刷头 晶圆表面 驱动旋转 杂质颗粒 定位部 定位点 上表面 竖直轴 耗材 减小 竖直 预设 种晶 对准 驱动 生产
【权利要求书】:

1.一种晶圆寻边装置,其特征在于,包括:

旋转台,用于放置晶圆,并用于驱动放置于所述旋转台的晶圆绕一竖直轴旋转,使晶圆表面设置的定位部在竖直方向上对准预设的定位点;

刷头,安装至所述旋转台一侧,朝向所述旋转台的上表面设置,用于刷洗放置至所述旋转台的晶圆。

2.根据权利要求1所述的晶圆寻边装置,其特征在于,所述刷头包括正面刷以及背面刷中的至少一个,其中:

所述正面刷的刷毛竖直向下设置,用于刷洗所述晶圆的正面;

所述背面刷的刷毛竖直向上设置,用于刷洗所述晶圆的背面。

3.根据权利要求2所述的晶圆寻边装置,其特征在于,所述刷头还包括:

侧面刷,刷毛设置在水平方向上,用于刷洗边的晶圆的侧面。

4.根据权利要求1所述的晶圆寻边装置,其特征在于,还包括检测单元,设置于所述旋转台一侧,用于检测所述晶圆的寻边操作是否完成。

5.根据权利要求4所述的晶圆寻边装置,其特征在于,所述检测单元包括:出光器,用于出射光信号;

收光器,朝向所述出光器设置,用于接收所述出光器出射的光信号;

所述出光器和收光器分别设置于所述晶圆放置位的上下两侧,且所述出光器出射光的光轴在竖直方向上,并过所述定位点。

6.根据权利要求5所述的晶圆寻边装置,其特征在于,所述出光器包括超辐射发光二极管,所述收光器包括电子耦合器件,且所述超辐射发光二极管和所述电子耦合器件的连线过所述定位点。

7.根据权利要求5所述的晶圆寻边装置,其特征在于,还包括:

控制单元,连接至所述出光器、收光器和旋转台,用于控制所述旋转台的旋转,以及所述出光器的出光、收光器的收光。

8.根据权利要求7所述的晶圆寻边装置,其特征在于,所述控制单元对所述出光器、收光器和旋转台的控制包括:

控制所述出光器持续出光;

控制所述收光器持续收光;

控制所述旋转台在所述收光器接收到光信号时停止旋转。

9.根据权利要求1所述的晶圆寻边装置,其特征在于,还包括一升降台,连接至所述刷头,用于控制所述刷头在竖直方向上运动,使所述刷头与晶圆接触,或脱离与晶圆的接触。

10.一种晶圆刻蚀设备,其特征在于,包括一晶圆寻边装置,用于对待刻蚀的晶圆进行寻边操作,所述晶圆寻边装置包括:

旋转台,用于放置晶圆,并用于驱动放置于所述旋转台的晶圆绕一竖直轴旋转,使晶圆的定位部在竖直方向上对准预设的定位点;

刷头,安装至所述旋转台一侧,朝向所述旋转台的上表面设置,用于刷洗放置至所述旋转台的晶圆。

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