[实用新型]微机电泵有效
申请号: | 201920426268.X | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN209959441U | 公开(公告)日: | 2020-01-17 |
发明(设计)人: | 莫皓然;余荣侯;张正明;戴贤忠;廖文雄;黄启峰;韩永隆;郭俊毅 | 申请(专利权)人: | 研能科技股份有限公司 |
主分类号: | F04B43/04 | 分类号: | F04B43/04;F04B45/047 |
代理公司: | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 喻学兵 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 致动部 氧化层 硅芯片 动应力 第一基板 外周部 压电 环绕 外围 第二基板 汇流通道 流体通道 微机电泵 压电组件 振动腔室 中空环状 硅材层 汇流腔 | ||
1.一种微机电泵,其特征在于,包含:
一第一基板,具有多个流入孔,该多个流入孔呈锥形;
一第一氧化层,叠设该第一基板,该第一氧化层具有多个汇流通道及一汇流腔室,该多个汇流通道连通于该汇流腔室及该多个流入孔之间;
一第二基板,结合至该第一基板,包含:
一硅芯片层,具有:
一致动部,呈圆形,具有一极限应力值及一作动应力值;
一外周部,呈中空环状,环绕于该致动部的外围;
多个连接部,分别连接于该致动部与该外周部之间;以及
多个流体通道,环绕于该致动部的外围,且分别位于该多个连接部之间;
一第二氧化层,形成于该硅芯片层上,呈中空环状,并与该硅芯片层定义一振动腔室;
一硅材层,呈圆形,位于该第二氧化层且结合至该第一氧化层,具有:
一穿孔,形成于该硅材层的中心;
一振动部,位于该穿孔的周边区域;以及
一固定部,位于该硅材层的周缘区域;以及
一压电组件,呈圆形,叠设于该硅芯片层的该致动部,具有一压电应力值;
其中,该极限应力值大于该作动应力值,该作动应力值大于该压电应力值。
2.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该压电组件更包含:
一下电极层;
一压电层,叠置于该下电极层;
一绝缘层,铺设于该压电层的部分表面及该下电极层的部分表面;以及
一上电极层,叠置于该绝缘层及该压电层未设有绝缘层的其余表面,用以与该压电层电性连接。
3.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该第一基板为一硅芯片(Si wafer)。
4.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该第二基板为一绝缘层上覆硅的硅芯片(SOI wafer)。
5.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该第一基板的厚度介于150至400微米(μm)之间。
6.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该第二基板的该硅材层的厚度介于2至5微米(μm)之间。
7.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该第二基板的硅芯片层的厚度介于10至20微米(μm)之间。
8.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该第一氧化层的厚度大于该第二氧化层的厚度。
9.如权利要求8所述的微机电泵,其特征在于,该第一氧化层的厚度界于10至20微米(μm)之间。
10.如权利要求8所述的微机电泵,其特征在于,该第二氧化层的厚度介于0.5至2微米(μm)之间。
11.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该极限应力值是为200百万帕(Mpa)。
12.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该作动应力值是介于120至160百万帕(Mpa)之间。
13.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该压电应力值是介于30至60百万帕(Mpa)之间。
14.如权利要求1所述的微机电泵,其特征在于,该致动部包含一极限频率及一作动频率,该作动频率低于该极限频率。
15.如权利要求14所述的微机电泵,其特征在于,该极限频率是为2百万赫兹(Mhz)。
16.如权利要求14所述的微机电泵,其特征在于,该作动频率是介于0.8至1.9百万赫兹(Mhz)之间。
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