[实用新型]一种平板式PECVD设备微波离子源工艺气体喷气装置有效
申请号: | 201920427283.6 | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN210012901U | 公开(公告)日: | 2020-02-04 |
发明(设计)人: | 陈国钦;张威;杨彬;唐电;吴易龙;李建志 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/455 |
代理公司: | 43008 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 周长清;徐好 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷气孔 送气管 本实用新型 工艺气体 喷气装置 离子源 等间距布置 微波离子源 等距分布 线性状态 喷气管 平板式 叠加 | ||
1.一种平板式PECVD设备微波离子源工艺气体喷气装置,包括多个沿Y轴方向布置的离子源(3),所述离子源(3)中包含多根送气管(1),所述送气管(1)上沿X轴方向设有多个喷气孔(2),其特征在于:所有离子源(3)中输送相同工艺气体的喷气孔(2)的X轴坐标各不相同且叠加后成等间距布置。
2.根据权利要求1所述的平板式PECVD设备微波离子源工艺气体喷气装置,其特征在于:各所述喷气孔(2)均为圆孔。
3.根据权利要求1或2所述的平板式PECVD设备微波离子源工艺气体喷气装置,其特征在于:所述离子源(3)中包括一根第一送气管(11)和两根第二送气管(12),第一送气管(11)和第二送气管(12)输送的工艺气体不同,两根第二送气管(12)输送的工艺气体相同且分设于第一送气管(11)的两侧。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的