[实用新型]一种平板式PECVD设备反应腔室特气耦合输送装置有效
| 申请号： | 201920427285.5 | 申请日： | 2019-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN210012899U | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 杨彬;陈特超;陈国钦;唐电;苏卫中;杨勇 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;F16J15/06 |
| 代理公司： | 43008 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) | 代理人： | 周长清;徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 送气 过渡通道 过渡座 密封圈 上端 本实用新型 反应腔室 下端 翻盖结构 固定不动 活动上盖 气体泄漏 上端边缘 输送装置 下反应腔 耦合 反应腔 铰链式 喷气口 平板式 上盖 伸入 特气 外周 室内 引入 | ||
1.一种平板式PECVD设备反应腔室特气耦合输送装置，其特征在于：包括位于反应腔室上盖上的上送气座(1)、位于反应腔室内的下送气座(2)、以及位于上送气座(1)和下送气座(2)之间的过渡座(3)，所述上送气座(1)上设有多个上送气接头(11)，所述过渡座(3)上设有多个过渡通道(31)，所述下送气座(2)上设有多个下送气接头(21)，各所述上送气接头(11)下端与各所述过渡通道(31)的上端一一对应布置，各所述下送气接头(21)上端一一对应地伸入各所述过渡通道(31)的下端，所述过渡座(3)上端于各所述过渡通道(31)外周分别设有第一密封圈(33)，过渡座(3)上端边缘设有包括所有第一密封圈(33)在内的第二密封圈(32)。
2.根据权利要求1所述的平板式PECVD设备反应腔室特气耦合输送装置，其特征在于：所述过渡座(3)内设有抽真空通道(34)，所述抽真空通道(34)的进气口位于所述第一密封圈(33)和第二密封圈(32)之间，且出气口连接有抽真空泵。
3.根据权利要求1或2所述的平板式PECVD设备反应腔室特气耦合输送装置，其特征在于：所述下送气接头(21)上端设有至少一个第三密封圈(22)。
4.根据权利要求1或2所述的平板式PECVD设备反应腔室特气耦合输送装置，其特征在于：所述下送气接头(21)外周套设有弹性件(23)，所述弹性件(23)上端与所述过渡座(3)抵接，弹性件(23)下端与所述下送气座(2)抵接。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
