[实用新型]一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备

权利要求书

1.一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：包括真空外腔、真空内腔、颗粒搅拌机构及等离子体发生器，所述真空内腔设在真空外腔内，所述颗粒搅拌机构设在真空内腔内，所述等离子体发生器设在颗粒搅拌机构上；所述真空外腔右侧设有真空抽气口及进气口，所述真空内腔包括反应仓及过滤网板，所述反应仓顶部开口，所述过滤网板设在反应仓顶部，所述进气口与真空内腔右侧连通；所述等离子体发生器包括电极组及等离子体发生电源，所述电极组设在过滤网板上方。

2.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述颗粒搅拌机构包括中空转轴及若干搅拌叶，所述各搅拌叶分别与中空转轴连接，所述中空转轴前面与后面分别设有若干布气孔，所述中空转轴右侧设置有进气管轴，所述进气管轴与进气口连接。

3.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述过滤网板的目数为1000-5000目。

4.根据权利要求2所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述中空转轴上的布气孔孔径为0.1-2mm。

5.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述真空外腔包括左盖体、右盖体及中间体，所述中间体两侧分别与左盖体、右盖体连接。

6.根据权利要求5所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述中间体的形状为圆筒状或矩形状的任意一种。

7.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述电极组为正极，所述反应仓为负极。

8.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述电极组为负极，所述反应仓为正极。