[实用新型]承载台及采用该承载台的光刻胶涂布设备

说明书

本实用新型提供一种承载台及采用该承载台的光刻胶涂布设备，其中，清洗系统能够对内壳体的外侧壁及外壳体的内侧壁进行定期清洗，降低承载台的内壳体及外壳体的替换频率，大大提高了光刻胶涂布设备的工作效率。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种承载台及采用该承载台的光刻胶涂布设备。

背景技术

通常，采用光刻胶涂布设备在进行光刻胶涂布时，晶圆(wafer)需要放置在承载台上，以进行固定。图1是现有的承载台的结构示意图。请参阅图1，所述承载台具有一外壳体10及一内壳体11，所述外壳体10套设在所述内壳体11上。一可旋转托盘12自所述内壳体11中伸出，一晶圆13吸附在所述可旋转托盘12上。当进行涂布时，光刻胶滴加在晶圆13上，所述可旋转托盘12高速旋转，在离心力的作用下光刻胶被均匀的涂布在晶圆13上。

其中，在涂布过程中，多余的光刻胶会被甩到承载台的外壳体10的内侧壁及内壳体11的外侧壁上，长时间就会造成光刻胶在外壳体10的内侧壁及内壳体11的外侧壁上结晶，进而污染晶圆，影响产品的良率。

现有的避免晶圆被污染的方法是定期对承载台的内壳体及外壳体进行更换，而每次的更换时间大约为2～3个小时，大大降低了光刻胶涂布设备的效率。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种承载台及采用该承载台的光刻胶涂布设备，其能够对承载台进行定期清洗，从而降低承载台的内壳体及外壳体的替换频率，大大提高了光刻胶涂布设备的工作效率。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种承载台，其包括：一外壳体，其顶部具有一沿水平方向突出的凸缘，在所述凸缘内设置有一清洗管路，在所述凸缘的内侧壁具有多个倾斜凹孔，所述倾斜凹孔与所述清洗管路连通；一内壳体，设置在所述外壳体内；一清洗系统，与所述清洗管路连通，所述清洗系统的清洗液能够经所述清洗管路及所述倾斜凹孔喷入所述内壳体与所述外壳体之间，以清洗所述内壳体的外侧壁及所述外壳体的内侧壁。

进一步，所述倾斜凹孔与水平方向的夹角为45度～75度。

进一步，所述倾斜凹孔朝向所述外壳体的内侧壁方向倾斜。

进一步，所述倾斜凹孔朝向所述内壳体的外侧壁方向倾斜。

进一步，所述清洗管路沿所述凸缘环绕所述外壳体一周。

进一步，所述清洗系统包括一控制器、一清洗液源及一进液管，所述控制器用于控制所述清洗系统的开启与关闭，所述进液管的一端与所述清洗液源连通，另一端与所述清洗管路连通，以将所述清洗液源内的清洗液导入所述清洗管路中。

进一步，所述控制器为一可编程控制器。

进一步，所述外壳体的所述凸缘围成一外开口，所述内壳体的顶部具有一内开口，所述外开口与所述内开口对应设置，所述承载台还包括一可旋转的支撑托盘，所述支撑托盘用于支撑一待涂布的样品，所述支撑托盘自所述内壳体的内部经所述内开口伸出，且位于所述外开口与所述内开口之间，所述待涂布的样品能够自所述外开口处放置在所述支撑托盘上。

进一步，所述承载台还包括一排液管路，所述排液管路与所述外壳体的底部连通，以用于排放废液。

本实用新型还提供一种光刻胶涂布设备，其采用上述的承载台承载待涂布产品。

本实用新型的优点在于，清洗系统能够对内壳体的外侧壁及外壳体的内侧壁进行定期清洗，降低承载台的内壳体及外壳体的替换频率，大大提高了光刻胶涂布设备的工作效率。

附图说明

图1是现有的承载台的一结构示意图；

图2是本实用新型承载台的一结构示意图。

附图标记说明：