[实用新型]用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构有效

专利信息
申请号: 201920452213.6 申请日: 2019-04-04
公开(公告)号: CN209374399U 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 宋家玉;蔡克亚;刘伟伟;李康康;张子奇;王晓龙;刘文钊;易玲;李闯 申请(专利权)人: 安图实验仪器(郑州)有限公司
主分类号: H01J49/16 分类号: H01J49/16;H01J49/26
代理公司: 郑州异开专利事务所(普通合伙) 41114 代理人: 王霞
地址: 450016 河南省郑*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 靶板 安装凹槽 基质辅助激光解析 本实用新型 定位机构 离子源 质谱仪 横向定位结构 动作过程 人为因素 自由更换 纵向定位 安装面 故障率 拐角处 卡装 内凹 检测 保证
【权利要求书】:

1.一种用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构,包括靶拖(1),所述靶拖(1)的安装面内凹形成用于卡装靶板(2)的安装凹槽(3),其特征在于:在靠近所述安装凹槽(3)拐角处的安装凹槽(3)短边上设置有横向定位结构、安装凹槽(3)长边上设置有纵向定位结构。

2.根据权利要求1所述的用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构,其特征在于:所述横向定位结构和所述纵向定位结构相同。

3.根据权利要求2所述的用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构,其特征在于:所述横向定位结构和纵向定位结构均包括开设在所述安装凹槽(3)侧壁上的安装孔,位于所述安装孔内端的L形定位滑块(4.1)内表面与密封设置在安装孔内的复位弹簧(4.2)相固连,与所述L形定位滑块(4.1)对应处的安装凹槽(3)底壁边缘处开设有限位槽(4.3),所述限位槽(4.3)内设置有限制L形定位滑块(4.1)移动位置的限位挡块(4.4)。

4.根据权利要求3所述的用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构,其特征在于:所述安装孔内设置有防止所述复位弹簧(4.2)弹出的密封堵塞(4.5)。

5.根据权利要求1所述的用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构,其特征在于:位于所述安装凹槽(3)左右两侧的靶拖(1)上对称开设有一对弧形手指槽(5)。

6.根据权利要求1所述的用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构,其特征在于:所述安装凹槽(3)底壁中部嵌设有与所述靶板(2)铁片相配合的磁铁块(6)。

7.根据权利要求1所述的用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构,其特征在于:所述安装凹槽(3)的另三拐角处分别开设有与所述靶板(2)拐角相配合的限位孔(7)。

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