[实用新型]一种发光二极管有效
申请号: | 201920460615.0 | 申请日: | 2019-04-08 |
公开(公告)号: | CN209487532U | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 韩权威;孙旭;戴志祥;汪学鹏;李烨;范慧丽;张家豪 | 申请(专利权)人: | 安徽三安光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38 |
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地址: | 241000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光二极管 电性连接 发光层 焊盘 本实用新型 电流扩展 依次层叠 均匀性 衬底 芯粒 环绕 侧面 | ||
一种发光二极管,至少包括从下至上依次层叠的衬底、N型半导体层、发光层、P型半导体层,以及与N型半导体层电性连接的N电极、与P型半导体层电性连接的P电极,所述P电极包括位于P型半导体层表面的P焊盘和P扩展条,其特征在于:所述N电极包括位于N型半导体层侧面的N焊盘以及位于N型半导体层表面并环绕所述发光层和P型半导体层的N扩展条,所述P扩展条末端与N扩展条距离相同。本实用新型可以提高电流扩展均匀性,从而提高亮度,增强可靠性;同时芯粒尺寸可进一步缩小。
技术领域
本实用新型属于半导体领域,尤其涉及一种使电流扩展更均匀的发光二极管。
背景技术
目前正装LED的常规工艺制程,是通过刻蚀外延层至N型层,将N型层露出,并在露出的N型层表面制作N电极,在P型层的表面制作P电极。当LED注入电流时,在P、N电极连线的弧形区域电流密度显著高于其他区域,并且随着电流的增大、点亮时间的增加,高电流密度区域温度会明显升高,器件的半导体电阻也会明显增大,从而降低了内量子效率;同时温度上升,会降低高电流密度区域的LED的工作特性和可靠性。
同时,常规结构的LED中,需在外延层表面预留区域制作P、N电极,当芯粒尺寸进一步缩小时,由于P、N电极过于接近,从而限制了芯粒尺寸的缩小。
发明内容
为解决以上问题,本实用新型提供了一种发光二极管,可以提高电流扩展均匀性,缩小芯粒尺寸。具体技术方案如下:
一种发光二极管,至少包括从下至上依次层叠的衬底、N型半导体层、发光层、P型半导体层,以及与N型半导体层电性连接的N电极、与P型半导体层电性连接的P电极,所述P电极包括位于P型半导体层表面的P焊盘和P扩展条,其特征在于:所述N电极包括位于N型半导体层侧面的N焊盘以及位于N型半导体层表面并环绕所述发光层和P型半导体层的N扩展条,所述P扩展条末端与N扩展条距离相同。
优选的,所述P焊盘位于P型半导体层表面的中心位置。
优选的,所述N焊盘为复数个均匀分布的块状。
优选的,所述N焊盘的数量为2个以上。
优选的,所述N焊盘为绕N型半导体层侧面的环状。
优选的,所述P扩展条为复数个均匀分布的条状。
优选的,所述P扩展条的数量为2个以上。
优选的,所述发光层和P型半导体层侧面设置电流阻挡层。
优选的,所述P电极和P型半导体之间还设置有透明导电层。
本实用新型通过在P型半导体层表面设置具有P焊盘和P扩展条的P电极,在N型半导体层的侧面设置N焊盘以及在N型半导体层的表面设置环绕发光层和P型半导体层的环状N扩展条,并使P扩展条末端与N扩展条距离相同,从而促进电流扩展,提高电流扩展的均匀性。另外,由于N焊盘位于N型半导体层的侧面,芯粒尺寸则可以进一步缩小。
附图说明
图1为本实用新型之发光二极管俯视图。
图2为沿图1线A-A的截面图。
具体实施方式
下面将结合示意图对本实用新型LED芯片进行更详细的描述,其中表示了本实用新型的优选实施例,应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型,而仍然实现本实用新型的有利效果。因此,下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道,而并不作为对本实用新型的限制。
实施例1
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