[实用新型]新型雾化气道结构及雾化装置

权利要求书

1.一种新型雾化气道结构，应用于雾化装置中，所述雾化装置包括壳体、以及位于壳体内的雾化模块、气流咪头及方案板，其特征在于，所述新型雾化气道结构包括形成于壳体的底部与顶部之间的主气道，以及位于壳体的底部且与主气道连通的支路气道，所述壳体对应主气道的位置开设有第一进气口，以及对应支路气道的位置开设有第二进气口。

2.如权利要求1所述的新型雾化气道结构，其特征在于，所述第二进气口靠近气流咪头的位置设置。

3.如权利要求2所述的新型雾化气道结构，其特征在于，所述第一进气口位于壳体的底部或靠近壳体底部的壳体侧壁。

4.如权利要求3所述的新型雾化气道结构，其特征在于，所述第二进气口位于壳体底部。

5.如权利要求4所述的新型雾化气道结构，其特征在于，所述方案板及安装于方案板上的气流咪头分别与壳体底部之间形成有间距。

6.如权利要求5所述的新型雾化气道结构，其特征在于，所述支路气道的出口靠近雾化模块的进气端口设置。

7.一种雾化装置，其特征在于，所述雾化装置包括如权利要求1至6任一项所述的新型雾化气道结构。