[实用新型]一种纳米尺度孔材料、电极及储能设备有效

专利信息
申请号: 201920468253.X 申请日: 2019-04-08
公开(公告)号: CN210692673U 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 辛民昌;李长明;吴超;辛程勋 申请(专利权)人: 青岛九环新越新能源科技股份有限公司
主分类号: H01M4/02 分类号: H01M4/02;H01G11/26
代理公司: 重庆航图知识产权代理事务所(普通合伙) 50247 代理人: 胡小龙
地址: 266102 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 尺度 材料 电极 设备
【权利要求书】:

1.一种纳米尺度孔材料,其特征在于:包括材料本体(1),所述材料本体(1)的至少一个侧面上规则分布的纳米尺度孔(2);垂直于所述纳米尺度孔(2)轴线的任意平面在该所述纳米尺度孔(2)上截得的两个径向截面的为相似图形;所述径向截面为圆形、椭圆形、三角形、长方形、菱形或正多边形。

2.根据权利要求1所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)为设置在所述材料本体(1)侧面上的盲孔。

3.根据权利要求2所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:垂直于所述纳米尺度孔(2)轴线的任意两个平面在该所述纳米尺度孔(2)上截得的两个径向截面中,距离所述纳米尺度孔(2)孔底较近的所述径向截面的面积小于等于距离所述纳米尺度孔(2)孔底较远的所述径向截面的面积。

4.根据权利要求1所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)为贯穿所述材料本体(1)的通孔。

5.根据权利要求1所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)呈阵列设置。

6.根据权利要求1所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)呈渐变阵列设置。

7.根据权利要求6所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)以孔径、孔间距或孔形状为基准渐变阵列设置。

8.根据权利要求1所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)的孔径大于等于1nm。

9.根据权利要求8所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)的孔径小于等于1um。

10.根据权利要求9所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)的孔径小于等于100nm。

11.根据权利要求10所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)的孔径小于等于50nm。

12.根据权利要求11所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)的孔径大于等于2nm。

13.根据权利要求1所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)之间的孔间距满足:

L≤kδ

其中,L为纳米尺度孔的孔间距;k为系数,且k≥1;δ为扩散控制层厚度。

14.根据权利要求13所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)之间的孔间距满足:L≤10δ。

15.据权利要求14所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)之间的孔间距满足:L≤5δ。

16.据权利要求15所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)之间的孔间距满足:L≤2δ。

17.据权利要求16所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)之间的孔间距满足:L≤δ。

18.据权利要求17所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述纳米尺度孔(2)阵列设置在所述材料本体(1)的侧面上。

19.根据权利要求13-18任一项所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述扩散控制层厚度为:

其中,δ为扩散控制层厚度;D为扩散系数;t为时间。

20.据权利要求1所述的纳米尺度孔材料,其特征在于:所述材料本体(1)的厚度大于等于1nm。

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