[实用新型]一种辊道窑底面进气结构有效

专利信息
申请号: 201920469652.8 申请日: 2019-04-09
公开(公告)号: CN209820135U 公开(公告)日: 2019-12-20
发明(设计)人: 都超;黄向阳 申请(专利权)人: 苏州云栖谷智能系统装备有限公司
主分类号: F27B9/30 分类号: F27B9/30
代理公司: 11400 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 邢若兰;高之波
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 窑炉本体 匣钵 进气孔 辊棒 横向间隙 烧结 侧壁 底面 多列 本实用新型 方向设置 进气结构 辊道窑 填充
【说明书】:

实用新型公开了一种辊道窑底面进气结构,包括窑炉本体、辊棒、匣钵和进气孔,于辊棒上且沿辊棒的输送方向设置有多列匣钵,相邻的每列匣钵之间留有5mm‑15mm的横向间隙;靠近窑炉本体的侧壁的匣钵与窑炉本体的侧壁之间留有60mm‑100mm的外侧间隙;窑炉本体的底面设有多列进气孔,每列进气孔分别与横向间隙和外侧间隙的位置相对应,使气氛更快速、更均匀的填充窑炉本体,使烧结温度更均匀,提高烧结质量。

技术领域

本实用新型涉及窑炉技术领域,特别涉及一种辊道窑底面进气结构。

背景技术

在烧结工艺中常采用辊道窑对零部件进行烧结成型,在烧结过程需要加入氧气或氮气等气氛进行辅助,在现有技术中进气孔的布置较为随意地设置于窑炉本体的底部,气氛只能由下至上渐渐地填充整个窑炉本体,从而使气氛包围匣钵,因窑炉本体内放满有匣钵,气氛在向上填充的过程中只能从匣钵堆的两侧边向上流动,填充的路径长,时间也长,气氛的流动阻力也较大,并且匣钵之间是紧贴着放置,或之间的间隙过小,气氛就难以填充甚至没有被填充,这样,导致气氛填充不够均匀,烧结出的质量就不理想。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种辊道窑底面进气结构,每列匣钵之间留有间隙,该间隙正下方设有进气孔,匣钵与窑炉本体的侧壁之间也留有间隙,该间隙的正下方设有进气孔,有效的解决了气氛填充慢、不均匀等影响烧结质量的问题。

为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:

一种辊道窑底面进气结构,包括窑炉本体、辊棒、匣钵和进气孔,于辊棒上且沿辊棒的输送方向设置有多列匣钵,相邻的每列匣钵之间留有5mm-15mm的横向间隙;靠近窑炉本体的侧壁的匣钵与窑炉本体的侧壁之间留有60mm-100mm的外侧间隙;窑炉本体的底面设有多列进气孔,每列进气孔分别与横向间隙和外侧间隙的位置相对应。

由此,气氛从每列的进气孔喷出,由于进气孔的位置对着横向间隙和外侧间隙,部分气氛可直接从横向间隙和外侧间隙向上流动并填充窑炉本体,加快填充时间,再者,每列匣钵间留有横向间隙更有利于气氛包围匣钵,使气氛分布更均匀,提高烧结质量。

在一些实施方式中,横向间隙为10mm。由此,10mm横向间隙的设置一方面提供足够的空间让气氛向上流动并有效的包围匣钵,若横向间隙过小不利于气氛的流动,窑炉本体的空间的有限,若横向间隙过大浪费空间和资源,降低生产效率。

在一些实施方式中,每列中前后相邻的匣钵之间留有5mm-15mm的纵向间隙。由此,每列中前后相邻的匣钵之间留有纵向间隙便于气氛的向上填充和更好地包围匣钵,使气氛分布更均匀,提高烧结质量。

在一些实施方式中,纵向间隙为10mm。由此,10mm纵向间隙的设置一方面提供足够的空间让气氛向上流动并有效的包围匣钵,若纵向间隙过小不利于气氛的流动,窑炉本体的空间的有限,若纵向间隙过大浪费空间和资源,降低生产效率。

在一些实施方式中,匣钵设置为四列,进气孔设置为五列。由此,四列设置匣钵更好地利用窑炉本体的空间,提高生产效率。每个横向间隙和每个外侧间隙的下方均设有相对应的一列进气孔,使气氛的填充时效更快,更均匀。

在一些实施方式中,进气孔为直径30mm的气孔。由此,30mm直径的进气孔可使气氛流畅地流入窑炉本体。

在一些实施方式中,该辊道窑还包括进气管,进气管的一端与进气孔连通,另一端延伸至窑炉本体的外侧。由此,气氛通过进气管从窑炉本体的外部输送至窑炉本体的内部。

在一些实施方式中,外侧间隙为80mm-85mm之间。由此,外侧间隙为80mm-85mm之间,此外侧间隙比横向间隙大,会促使气氛更流畅地从外侧间隙向上流动并填充窑炉本体,也使匣钵的外围包围有更充足的气氛而保证烧结质量。优选外侧间隙为84mm。

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