[实用新型]半导体制冷片加工设备的分流装置

权利要求书

1.一种半导体制冷片加工设备的分流装置，包括机架，所述的机架设置有性能不合格输送带、尺寸不合格输送带、合格产品输送带及吸盘输送装置，所述的性能不合格输送带、尺寸不合格输送带及合格产品输送带平行设置，所述的吸盘输送装置往复移动于不合格输送带、尺寸不合格输送带及合格产品输送带并将成品放置于对应的输送带上，其特征在于：所述的机架位于性能不合格输送带、尺寸不合格输送带及合格产品输送带处分别设置有在负压吸盘解除吸力后将半导体制冷片向输送带的落料位吸引的吸引装置。

2.根据权利要求1所述的半导体制冷片加工设备的分流装置，其特征在于：所述的性能不合格输送带、尺寸不合格输送带及合格产品输送带包括环状的带体及驱动带体旋转转动的转动机构，所述的机架位于环状的带体的两侧侧面分别固定设置有侧板，所述的吸引装置位于环状的带体内侧，所述的吸引装置包括吸引平台、电磁铁及升降机构，所述的吸引平台位于环状的带体上半部的下方，所述的升降机构固定于侧板并驱动吸引平台升降，所述的吸引平台中部开设有安装孔，所述的电磁铁位于该安装孔并产生用于吸引半导体制冷片金属部分的磁力，所述的机架与落料位设置有在落料位具有半导体制冷片切断电磁体电源的红外传感器。

3.根据权利要求2所述的半导体制冷片加工设备的分流装置，其特征在于：所述的吸引平台相对合格产品输送带的输送方向的两端分别设置有外周与环状的带体上半部的下方贴合的支撑辊。

4.根据权利要求2所述的半导体制冷片加工设备的分流装置，其特征在于：所述的升降机构包括位于吸引平台下方并固定于侧板的升降气缸，所述的升降气缸朝向上方沿竖向设置有气缸轴，所述的气缸轴分别设置有两个插入吸引平台并可相对吸引平台竖向移动的分支，所述的分支位于吸引平台下方的外周设置有减震盘，所述的减震盘与吸引平台的下端面之间压缩设置有减震弹簧。

5.根据权利要求1或2或3或4所述的半导体制冷片加工设备的分流装置，其特征在于：所述的吸盘输送装置包括吸盘座、主轨道、轨道座、主移动机构及竖向移动机构，所述的主轨道沿与合格产品输送带垂直的方向固定设置于机架上并位于性能不合格输送带、尺寸不合格输送带及合格产品输送带上方，所述的轨道座滑移于主轨道，所述的主移动机构驱动轨道座往复移动于主轨道，所述的竖向移动机构安装于轨道座并驱动吸盘座升降，所述的吸盘座下方排布有两个吸盘。

6.根据权利要求5所述的半导体制冷片加工设备的分流装置，其特征在于：所述的吸盘座沿主轨道方向设置有条形调节槽，所述的吸盘上端设置有穿过条形调节槽的调节柱，所述的调节柱位于调节槽上下两侧分别设置有与调节柱螺纹配合并与吸盘座相抵的调节螺栓。

7.根据权利要求2或3或4所述的半导体制冷片加工设备的分流装置，其特征在于：所述的转动机构包括输送电机、主动轴及从动轴，所述的主动轴及从动轴分别位于带体两端并转动设置于机架，所述的带体两端分别套设于主动轴及从动轴，所述的输送电机驱动主动轴转动。