[实用新型]烘烤装置有效
申请号: | 201920476498.7 | 申请日: | 2019-04-09 |
公开(公告)号: | CN209832944U | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
发明(设计)人: | 陈亚文;史文 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
主分类号: | B41F23/04 | 分类号: | B41F23/04;B41F23/00 |
代理公司: | 44224 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 侯武娇;潘艳丽 |
地址: | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烘烤腔 溶剂消除 气体驱动部件 加热板 烘烤基板 烘烤装置 烘烤 溶剂 基板 蒸发 本实用新型 驱动 部件接触 氮气氛围 气体运动 溶剂氛围 溶剂污染 一次烘烤 功能层 内循环 有效地 承载 吸收 | ||
本实用新型涉及一种烘烤装置,包括箱体、加热板、溶剂消除部件和气体驱动部件,箱体具有烘烤腔,加热板、溶剂消除部件和气体驱动部件设于烘烤腔内,加热板用于承载和烘烤基板,溶剂消除部件用于消除基板经烘烤所蒸发的溶剂,气体驱动部件用于驱动烘烤腔内的气体在烘烤腔内循环运动。该烘烤装置在箱体的烘烤腔内设置有溶剂消除部件和气体驱动部件,在一次烘烤工艺完成后,可及时地通过气体驱动部件驱动烘烤腔内的气体运动,从而使气体不断地与溶剂消除部件接触,于是烘烤基板时被加热板所蒸发的溶剂可有效地被溶剂消除部件吸收除去,如此可维持烘烤腔内纯净的氮气氛围,避免反复烘烤造成的溶剂氛围累积以及基板不同功能层之间的溶剂污染。
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,特别是涉及一种烘烤装置。
背景技术
采用溶液加工方法制作OLED、QLED等显示器,由于其具有低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点,是未来显示技术发展的重要方向。其中,印刷技术被认为是实现OLED、QLED等显示器低成本和大面积全彩显示的最有效途径。在印刷工艺中,有一道必不可少的工艺,即烘烤(bake)工艺,用于去除基板上墨水干燥后残留的溶剂以及使功能薄膜更加致密,从而提高印刷工艺制备的器件性能以及稳定性。通常用于烘烤工艺的装置为HPB装置(hot plate bake),即采用加热板(hot plate)对基板进行烘烤。而该装置在反复进行HPB工艺后,其腔室内会积累大量的溶剂蒸汽,从而影响后续的烘烤效果,同时容易造成不同功能层之间的溶剂污染,从而影响器件性能。一般的解决方案是通过对腔室进行循环抽真空、充氮气以置换腔室内气体,这种方法一方面极大消耗氮气增加成本,另一方面耗时也增加。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种可避免烘烤工艺中不同功能层之间的溶剂污染的烘烤装置。
一种烘烤装置,包括箱体、加热板、溶剂消除部件和气体驱动部件,所述箱体具有烘烤腔,所述加热板、所述溶剂消除部件和所述气体驱动部件设于所述烘烤腔内,所述加热板用于承载和烘烤基板,所述溶剂消除部件用于消除所述基板经烘烤所蒸发的溶剂,所述气体驱动部件用于驱动所述烘烤腔内的气体在所述烘烤腔内循环运动。
本实用新型的烘烤装置在箱体的烘烤腔内设置有溶剂消除部件和气体驱动部件,在一次烘烤工艺完成后,可及时地通过气体驱动部件驱动烘烤腔内的气体运动,从而使气体不断地与溶剂消除部件接触,于是烘烤基板时被加热板所蒸发的溶剂可有效地被溶剂消除部件除去,如此可维持烘烤腔内纯净的氮气氛围,避免反复烘烤造成的溶剂氛围累积以及基板不同功能层之间的溶剂污染。同时,通过将挥发出的溶剂去除,减小了烘烤腔内的溶剂蒸汽浓度,有利于提升烘烤工艺中功能薄膜的溶剂去除效果。
在其中一个实施例中,还包括隔板,所述隔板设于所述烘烤腔内以将所述烘烤腔分隔为第一腔体和第二腔体,所述隔板上设有第一风口和第二风口,所述气体驱动部件设于所述第一风口,以用于驱动气体通过所述第一风口和第二风口在所述第一腔体和所述第二腔体之间循环,所述加热板设于所述第一腔体内,所述溶剂消除部件设于所述第二腔体内。
在其中一个实施例中,相对于所述第一腔体,所述第一风口为进风口,所述第二风口为出风口,所述溶剂消除部件设于所述第二腔体内且靠近所述第二风口的位置。
在其中一个实施例中,所述隔板包括隔板顶壁和隔板侧壁,所述隔板顶壁与所述箱体的顶壁之间及所述隔板侧壁与所述箱体的侧壁之间均具有间隔,所述间隔形成所述第二腔体。
在其中一个实施例中,所述第一风口和所述第二风口设于所述隔板侧壁上相对的位置。
在其中一个实施例中,所述溶剂消除部件将所述第二腔体分隔为相互独立的两个子腔体,其中一个所述子腔体与所述第一风口连通,另一个所述子腔体与所述第二风口连通。
在其中一个实施例中,所述溶剂消除部件包括壳体和设于所述壳体内的吸附材料,所述壳体上设有气孔。
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