[实用新型]一种微波射频等离子体化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，包括腔体，所述腔体从上至下依次设置有相互连通的：

电离部，包括电离腔和从上到下依次设置于电离腔顶部的点火装置、进气口和压缩形波导管，所述压缩形波导管连通有微波源；

气相沉积部，包括气相沉积腔和绕设于气相沉积腔外壁的射频线圈，所述射频线圈的两端分别连接射频电源和所述点火装置；

取放样部，包括取放样腔，所述取放样腔设置有取放样窗口；

基台，升降设置于所述腔体内。

2.根据权利要求1所述的微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述压缩形波导管的前端设置有阻抗螺钉和环形器。

3.根据权利要求1所述的微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述气相沉积腔的外壁围设有第一冷却装置，所述取放样腔的外壁围设有第二冷却装置。

4.根据权利要求1所述的微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述微波源的工作频率为2.45GHz，功率为0-1000W。

5.根据权利要求1所述的微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述射频电源的工作频率为25KHz，功率为0-1000W。

6.根据权利要求1所述的微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述射频线圈等距离绕设于所述气相沉积腔的外壁的上半部。

7.根据权利要求1所述的微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述基台包括均匀散气台、设置于均匀散气台顶部的基片台、设置于均匀散气台底部的升降柱。

8.根据权利要求7所述的微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述均匀散气台的中心设置有凹槽，所述基片台设置于所述凹槽内；所述均匀散气台沿所述凹槽的外围均匀分布有一周散气孔；所述均匀散气台与所述升降柱螺接。

9.根据权利要求1所述的微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述电离腔与气相沉积腔为一体式结构，所述电离腔和气相沉积腔均为石英腔，所述电离腔的壁厚为4-6mm，所述电离腔的内径为30-40mm，所述气相沉积腔的内径为130-170mm，所述电离腔和气相沉积腔的总高度为400-450mm。

10.根据权利要求1所述的微波射频等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述取放样腔安装于气相沉积腔的底部，所述取放样腔与气相沉积腔的连接处设置有密封圈，所述取放样腔还设置有抽空管道和真空计。