[实用新型]一种纳米真空镀膜用冶具有效

专利信息
申请号: 201920505385.5 申请日: 2019-04-15
公开(公告)号: CN209722276U 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 江成龙 申请(专利权)人: 玛奇纳米科技(苏州)有限公司
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215500 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 冶具 真空镀膜 本实用新型 微波加热器 外侧设置 安装架 出料管 存放腔 工作箱 延伸管 外置 加工 用具技术领域 顶部安装 纳米加工 内部设置 均匀性 开关阀 排口 双排 融化
【说明书】:

实用新型公开了一种纳米真空镀膜用冶具,包括工作箱,所述工作箱内部设置有冶具釜,所述冶具釜外侧固定连接有安装架,所述安装架两侧分别安装有双排微波加热器和单微波加热器,所述冶具釜外侧设置有延伸管,所述冶具釜通过延伸管安装有外置管,所述外置管顶部安装有添加管,所述冶具釜底部设置有加固底层,所述加固底层中部开设有下排口,所述加固底层底部安装有存放腔,所述存放腔底部安装有出料管,所述出料管外侧设置有开关阀,本实用新型涉及纳米加工用具技术领域。该纳米真空镀膜用冶具,达到了对纳米真空镀膜物料进行融化加工混合的目的,方便了后期加工纳米真空镀膜时使用物料的均匀性,提高使用效果和加工出产品的质量。

技术领域

本实用新型涉及纳米加工用具技术领域,具体为一种纳米真空镀膜用冶具。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜,传统的蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素有许多,譬如基片材料与靶材的晶格匹配程度、基片表面温度、蒸发功率与速率、真空度等,目前在纳米真空镀膜加工前需要对物料进行融化冶炼,但是目前的冶具加工效率低,混合均匀性差。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种纳米真空镀膜用冶具,解决了目前的冶具加工效率低,混合均匀性差的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种纳米真空镀膜用冶具,包括工作箱,所述工作箱内部设置有冶具釜,所述冶具釜外侧固定连接有安装架,所述安装架两侧分别安装有双排微波加热器和单微波加热器,所述冶具釜外侧设置有延伸管,所述冶具釜通过延伸管安装有外置管,所述外置管顶部安装有添加管,所述冶具釜底部设置有加固底层,所述加固底层中部开设有下排口,所述加固底层底部安装有存放腔,所述存放腔底部安装有出料管。

优选的,所述出料管外侧设置有开关阀。

优选的,所述工作箱顶部设置有搅拌电机,所述搅拌电机输出轴延伸至冶具釜内部,所述冶具釜输出轴通过联轴器安装有搅拌器。

优选的,所述外置管内部安装有电磁阀,所述添加管顶部设置有密封盖。

优选的,所述外置管靠近冶具釜的一侧设置有安装套管,所述外置管通过安装套管与延伸管固定连接,所述安装套管顶部设置有锁紧螺栓,所述安装套管底部设置有排放阀。

优选的,所述工作箱底部固定连接有支撑脚架。

(三)有益效果

本实用新型提供了一种纳米真空镀膜用冶具。具备以下有益效果:

该纳米真空镀膜用冶具,将需要加工的物料放入冶具釜后,双排微波加热器和单微波加热器对冶具釜内部进行加热,使用微波加热快速融化冶具釜内部的物料,在冶具釜外侧的延伸管安装的外置管通过添加管可以添加一下液体物料,在外置管内部设置了电磁阀可以控制液体物料的添加,工作箱顶部的搅拌电机通过联轴器带动搅拌器对冶具釜内部物料进行搅拌,加快混合以及融化的速率,加热完毕的物料通过加固底层的下排口流入存放腔,存放腔底部设置的出料管可以将物料导出,达到了对纳米真空镀膜物料进行融化加工混合的目的,方便了后期加工纳米真空镀膜时使用物料的均匀性,提高使用效果和加工出产品的质量。

附图说明

图1为本实用新型整体的结构示意图;

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