[实用新型]清洗装置

说明书

本实用新型涉及一种清洗装置，包括：成对设置的二流体喷头，水箱和压缩空气装置；二流体喷头的第一入口与水箱的出水口连通，二流体喷头的第二入口用于与压缩空气装置的出气口连通；每对二流体喷头分别位于基板的两侧，且各二流体喷头用于将压缩空气和水的混合物喷射在对应侧经过显影处理后的基板端面周围，清洗基板的两个端面边缘处的薄膜。通过采用本实用新型实施例提供的清洗装置，能够实现对基本边沿剥落的薄膜进行清除，保证面板的品质。

技术领域

本实用新型涉及显示领域，特别是涉及一种清洗装置。

背景技术

这里的陈述仅提供与本申请有关的背景信息，而不必然地构成现有技术。

在基板的黄光制程中，在经过显影液的处理后，需要对蚀刻区域的保护膜进行去除，在蚀刻时，单位面积接触化学溶液的液滴量越大，则该单位面积的基板侧蚀越严重，且由于薄膜部镀在基板边沿的金属膜的密度无法保证，尤其是边缘部分蚀刻容易不均匀。

传统技术常采用水刀对显影基板表面进行冲洗，清洗后的基板常会残留一些薄膜，尤其是基板周围边缘的薄膜残留严重，影响产品的良率。

实用新型内容

基于此，有必要针对黄光制程中基板边沿的剥落残留问题，提供一种清洗装置。

一种清洗装置，包括：成对设置的二流体喷头，水箱和压缩空气装置；

二流体喷头的第一入口与水箱的出水口连通，二流体喷头的第二入口与压缩空气装置的出气口连通；

每对二流体喷头分别位于基板的两侧，且各二流体喷头用于将压缩空气和水的混合物喷射在对应侧经过显影处理后的基板端面周围，清洗基板的两个端面边缘处的薄膜。

在其中一个实施例中，清洗装置还包括相邻设置的清洗气刀和水刀；水刀的进水口与水箱的出水口连通，且水刀用于在二流体喷头清洗边缘前，向经过第一工作区域的基板端面喷射水；第一工作区域为所述水刀清洗基板的作业区域；

清洗气刀的进气口与压缩空气装置的出气口连通，清洗气刀的出气口喷出压缩空气，对基板进行吹扫。

在其中一个实施例中，清洗装置还包括承载座和排水装置，承载座用于承载基板；

二流体喷头清洗基板后的废水沿承载座上设置的导水槽和/或通孔流至排水装置。

在其中一个实施例中，清洗装置还包括传送装置，传送装置设置在承载座上，传送装置用于带动基板沿传送方向运动，使每一对二流体喷头的出口对着基板端面的周围。

在其中一个实施例中，清洗装置还包括导轨，导轨设置在承载座上；

传送装置包括载物板和滑轮，载物板与滑轮机械连接；

载物板用于放置和固定基板；

滑轮与导轨匹配；用于在导轨上滑动。

在其中一个实施例中，清洗装置还包括阻隔气刀，阻隔气刀的进气口与压缩空气装置的出气口连通，阻隔气刀的出气口喷射压缩空气形成气帘，隔绝相邻的两个工作区域，其中相邻的两个工作区域是指相邻工序的两个间隔工作区域。

在其中一个实施例中，阻隔气刀包括第一阻隔气刀，第一阻隔气刀设置在第一工作区域与第二工作区域的间隔处，其中，第二工作区域为二流体喷头清洗基板的作业区域。

在其中一个实施例中，清洗装置还包括去离子水清洗喷头和去离子装置，去离子装置用于输出去离子水至去离子水清洗喷头；去离子水清洗喷头用于喷射去离子水在经二流体喷头清洗后的基板端面。

在其中一个实施例中，清洗装置还包括干燥喷头，干燥喷头的进风口与压缩空气装置的出气口连通，干燥喷头的出气口对着去离子水清洗后的基板端面喷射干燥的压缩空气。