[实用新型]一种高性能RF MEMS电容式开关有效
申请号: | 201920515959.7 | 申请日: | 2019-04-16 |
公开(公告)号: | CN209461307U | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 肖倩;王竞轩;陈涛;刘泽文 | 申请(专利权)人: | 苏州希美微纳系统有限公司 |
主分类号: | H01H1/00 | 分类号: | H01H1/00 |
代理公司: | 苏州唯亚智冠知识产权代理有限公司 32289 | 代理人: | 陈晓瑜 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 微波传输线 地结构 开关驱动 电极 金属膜 开口 衬底 电容式开关 插入损耗 电极容纳 本实用新型 对地电容 共面波导 金属引线 两侧分布 驱动电极 信号传输 整体构造 介质层 上极板 电容 减小 架设 悬挂 制造 保证 | ||
1.一种高性能RF MEMS电容式开关,包括有衬底,其特征在于:所述衬底上分布有微波传输线,所述微波传输线上依次固定有介质层和电容上极板,所述微波传输线两侧分布有地结构,所述地结构开设有电极容纳槽,所述电极容纳槽内设置有开关驱动电极,且开关驱动电极底部固定于衬底上,所述开关驱动电极上方镜像悬挂有金属膜桥,所述金属膜桥同时连接地结构,所述地结构上设有开口,所述开口内设有引线,所述开口上连接有金属引线盖。
2.根据权利要求1所述的一种高性能RF MEMS电容式开关,其特征在于:所述衬底为高阻硅衬底;或是为,玻璃衬底;或是为,陶瓷衬底;或是为,砷化镓衬底。
3.根据权利要求1所述的一种高性能RF MEMS电容式开关,其特征在于:所述金属膜桥为T字形构造,所述T字形构造的横向端点与地结构相连,所述T字形构造的底部端点与电容上极板形成接触状态或是分离状态。
4.根据权利要求1所述的一种高性能RF MEMS电容式开关,其特征在于:所述金属膜桥为两镜像分布构成的H字形构造,所述H字形构造的纵向端点与地结构相连,所述H字形构造的中部端点与电容上极板形成接触状态或是分离状态。
5.根据权利要求1所述的一种高性能RF MEMS电容式开关,其特征在于:所述电容上极板与介质层和微波传输线构成对地耦合电容,所述金属膜桥悬挂在开关驱动电极上方,对称分布于对地耦合电容的两侧,所述金属膜桥填补地结构的开口。
6.根据权利要求1所述的一种高性能RF MEMS电容式开关,其特征在于:所述微波传输线为共面波导,或是为微带线。
7.根据权利要求1所述的一种高性能RF MEMS电容式开关,其特征在于:所述金属膜桥与地结构之间连接有金属锚点。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州希美微纳系统有限公司,未经苏州希美微纳系统有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920515959.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。