[实用新型]一种激光加热系统有效
申请号: | 201920521347.9 | 申请日: | 2019-04-17 |
公开(公告)号: | CN209690638U | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 汪伟;刘明峰;周晚君;姚艳;章顺;王奇;邓力 | 申请(专利权)人: | 武汉锐科光纤激光技术股份有限公司 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B26/08;G02B26/10 |
代理公司: | 11002 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人: | 苗青盛;吴欢燕<国际申请>=<国际公布> |
地址: | 430000 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
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1.一种激光加热系统,其特征在于,包括依次按照激光传输方向设置的半导体激光泵浦源、第一整形镜、二维扫描振镜和聚焦镜;
所述半导体激光泵浦源包括依次按照激光传输方向设置的激光二极管、第二整形镜和反射镜,并且从所述反射镜反射出的激光对应传输至所述第一整形镜。
2.根据权利要求1所述的激光加热系统,其特征在于,所述激光二极管、所述第二整形镜和所述反射镜设置在冷却底板上,在所述冷却底板的底部设有冷却组件。
3.根据权利要求2所述的激光加热系统,其特征在于,所述冷却底板呈台阶状,并在所述冷却底板的每层台阶面上均设置所述激光二极管、所述第二整形镜和所述反射镜。
4.根据权利要求2或3所述的激光加热系统,其特征在于,所述冷却组件包括冷却盘管,所述冷却盘管的两端分别通过管路连接水冷系统。
5.根据权利要求1或2或3所述的激光加热系统,其特征在于,所述半导体激光泵浦源还包括用于容纳所述激光二极管、所述第二整形镜和所述反射镜的壳体,在所述壳体上开设有出光孔;从所述反射镜反射出的激光对应通过所述出光孔对应传输至所述第一整形镜。
6.根据权利要求1或2或3所述的激光加热系统,其特征在于,所述第一整形镜和所述第二整形镜均采用柱面镜,所述柱面镜的柱面朝向光的入射方向。
7.根据权利要求6所述的激光加热系统,其特征在于,所述柱面镜的出光面设为圆形、矩形、正六边形或正八边形结构。
8.根据权利要求1或2或3所述的激光加热系统,其特征在于,所述半导体激光泵浦源发射的激光的波长为900-980nm,功率为50-100W;所述第一整形镜将所述半导体激光泵浦源发射出的激光整形为光斑,所述光斑呈方形,其边长为3-4mm;所述聚焦镜的焦距为100-245mm。
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