[实用新型]一种极化设备

说明书

本公开实施例涉及高分子薄膜极化技术，尤其涉及一种极化设备。极化设备用于极化待极化件，所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜，所述极化设备包括准备台、极化室、转移台和承载台，其中，所述准备台用于放置准备进入所述极化室的所述承载台；所述承载台用于放置待极化件；极化室用于对承载台上待极化件的所述高分子薄膜进行极化；转移台用于放置完成极化的极化件。本公开实施例所提供的技术方案，实现了自动化连续生产的效果。

技术领域

本公开实施例涉及高分子薄膜极化技术，尤其涉及一种极化设备。

背景技术

极化是薄膜材料处理中的一个重要环节，主要目的是使薄膜材料中杂乱取向的分子偶极矩沿着特定方向(如极化电场方向)一致取向，从而使该薄膜材料具有压电性能。现有的极化装置都是单独对一个高分子薄膜进行极化，没有实现极化的自动化生产。

因此，如何提供一种能自动化连续生产的极化方案，就成了现有技术的需求。

实用新型内容

本公开实施例提供一种极化设备，以实现自动化连续生产。

本公开实施例提供了一种极化设备，用于极化待极化件，所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜，所述极化设备包括准备台、极化室、转移台和承载台，其中，

所述准备台用于放置准备进入所述极化室的所述承载台；

所述承载台用于放置待极化件；

极化室用于对承载台上待极化件的所述高分子薄膜进行极化；

转移台用于放置完成极化的极化件。

优选地，所述承载台被移动到所述准备台时，所述待极化件被放置在所述承载台上；

所述承载台和所述待极化件被移动到所述极化室内时，所述极化室对所述高分子薄膜进行极化；

极化完成后，所述承载台和所述待极化件被移动到所述转移台后，所述承载台上的所述极化件被转移走。

优选地，所述基底包括基板、接地电极和接地引脚，所述接地引脚位于基板边缘，所述接地引脚和接地电极设置于所述基板的表面，所述高分子薄膜覆盖所述接地电极并暴露所述接地引脚，所述接地电极和所述接地引脚电性连接。

优选地，所述承载台呈平板状，所述承载台上开设有承载槽，所述承载槽的底部还开设至少两个贯穿所述承载台厚度方向的顶升孔，所述承载台上和承载槽相对的表面上还开设接地孔，所述承载台上还设置有承载电极，至少部分所述承载电极设置在所述接地孔的底部以及承载槽的侧面。

优选地，所述准备台包括第一传送装置和第一顶升装置，所述第一顶升装置位于所述第一传送装置的下方，所述承载台在第一传送装置作用下移动到预设的第一位置后，所述第一顶升装置升高穿过所述第一传送装置和所述顶升孔，外部的第一输送装置把所述待极化件放置在所述第一顶升装置上，所述第一顶升装置降低使得所述待极化件被放置在所述承载槽内。

优选地，所述极化室包括极化组件、第二传送装置、第二顶升装置和顶盖，所述顶盖包括导电片，所述第二顶升装置包括接地导线，所述第二顶升装置位于所述第二传送装置的下方，所述极化组件位于第二传送装置的上方，所述顶盖位于所述第二传送装置和所述极化组件之间，所述承载台在第二传送装置作用下传输到预设的第二位置后，所述第二顶升装置升高穿过第二传送装置并插入顶升孔，使所述承载台升高并和所述顶盖接触，所述顶盖把所述承载台上待极化件的接地引脚覆盖并露出所述待极化件的高分子薄膜，所述顶盖的导电片同时和接地引脚、承载槽的侧面的承载电极电性接触，所述第二顶升装置的接地导线和接地孔的底部的所述承载电极接触，所述极化组件用于对所述高分子薄膜进行极化。