[实用新型]一种光刻用真空基片夹具

说明书

本实用新型公开了一种光刻用真空基片夹具，涉及半导体制备技术领域，包括一个可与基片紧密贴合的真空载物台；载物台内设有N组真空吸附结构；真空吸附结构在载物台平面上的投影面积小于待吸附基片的面积；真空吸附结构包括沿真空载物台厚度方向设置的M个真空孔，真空孔为通孔；相邻的真空孔之间通过设在真空载物台内部的真空槽相连通；载物台底部设有与真空吸附结构配套的N个真空吸盘；真空吸附结构的底部被对应的真空吸盘覆盖；真空吸盘与载物台相接处密封；每个真空吸盘的根部中心设有一根真空管，N个真空管由设在末端的一个共同的真空总开关控制。该基片夹具不仅便于调整基片位置、且能够一机多用，提高夹具利用率、降低成本。

技术领域

本实用新型涉及半导体制备技术领域，特别地，涉及到一种光刻用真空基片夹具。

背景技术

在半导体制造中，芯片的制作一般都要对基片采用光刻技术；用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜板(也称作光刻板)，其作用是：在基片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

但是目前的实验和生产中，一旦遇到特殊形状和尺寸的基片，而掩膜版的位置又不能调整时，就需要通过调整夹具来调整基片的位置，或者按照需求定制特殊的基片夹具。但定制的基片夹具通常是一对一的设计(即一种夹具对应一种形状或尺寸的基片)，不同的基片要制作多种夹具、耗时耗财、并且利用率不高；而且通常的基片夹具均为机械硬性夹持方法，存在损伤基片的可能性。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中存在的上述技术问题，提供了一种结构简单合理的光刻用真空基片夹具。该夹具不仅便于调整基片位置、而且能够一机多用，提高夹具利用率、降低成本。

本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：

一种光刻用真空基片夹具，包括一个与基片贴合的真空载物台；所述载物台内设有N组真空吸附结构,N为自然数且N≧1；真空吸附结构在载物台平面上的投影面积小于待吸附基片的面积；

每组所述真空吸附结构包括沿真空载物台厚度方向设置的M个真空孔，M为自然数且M≧1；所述真空孔为通孔；相邻的真空孔之间通过设在真空载物台内部的真空槽相连通；

所述载物台底部设有与真空吸附结构配套的N个真空吸盘；真空吸盘覆盖真空吸附结构的底部；真空吸盘与载物台相接处密封；

每个所述真空吸盘的根部中心设有一根与真空吸附结构连通的真空管，N个真空管与设在末端的一个共同的真空总开关连接。

进一步，每个真空管上设有一个控制该管工作状态的真空分开关。

进一步，N组真空吸附结构在载物台上的投影面积大小不等。

进一步，M＝3。

更进一步，3个所述真空孔呈等边三角形排列，待吸附基片的中心与该等边三角形的中心重合。

本实用新型具有的优点和积极效果是：

本实用新型的真空基片夹具结构简单合理易操作，可以满足同一个载物台对不同大小和形状基片的固定，可以高效的进行光刻操作；而且真空吸附的方法对基片不会造成损伤，相较于机械夹具的硬性接触，本实用新型利于提高成品芯片的合格率；而且能够一机多用、提高夹具利用率、避免了定制特殊夹具造成的成本浪费。真空分开关的设置可以满足对各个真空吸附结构有选择的开启。

附图说明：

图1是本实用新型优选实施例中真空基片夹具的示意图。

其中：1、载物台；11、真空孔；12、真空槽；2、真空吸盘；3、真空管；4、真空总开关；5、真空分开关；6、基片。

具体实施方式