[实用新型]一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的装置

说明书

本实用新型涉及一种浮法制备TFT‑LCD玻璃基板的装置，包括窑炉、锡槽、拉边机、退火窑，其特征在于：在锡槽与退火窑之间安装一组二氧化硫通气装置，所述二氧化硫通气装置由TFT‑LCD玻璃带空气面金属罩和锡面金属罩和一组二氧化硫吹起管道组成。本实用新型优点：1.设备简单、便于生产操作；2.可有效去除Na⁺、K⁺等碱金属离子，同时又有效降低了TFT‑LCD玻璃基板富锡层的深度；3.减少后面面研磨对富锡层的研磨量，提高生成效率。

技术领域

本实用新型属玻璃制备领域，涉及TFT-LCD玻璃制备领域，具体涉及一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的装置。

背景技术

在浮法生产TFT-LCD玻璃基板的工艺中将各种原材料加入窑炉中，通过加热至1600℃以上进行熔化成玻璃液，玻璃液从窑炉流出进入锡槽，在熔融的金属锡液上方经拉边机牵引、平铺摊开成型，玻璃液沿拉边机的牵引方向前进成型成玻璃带。对于TFT-LCD玻璃来说，玻璃液进入锡槽的温度（约1100℃）比普通钠钙玻璃高出约100℃，冷却至离开锡槽进入退火窑时的温度约700℃；在上述温度范围内，玻璃处于液体状态，内部离子运动活跃，离子交换和扩散速度快，一方面在TFT-LCD玻璃原料中及生产工艺中夹杂进去的钠、钾碱金属离子比较活跃，容易聚集在玻璃的表面，形成游离金属离子；另一方面在高温（600-1150℃）条件下，锡很容易被氧化，锡槽中含有的微量氧，所生成的Sn²⁺、Sn⁴⁺渗入玻璃里面，形成富锡层，Sn²⁺、Sn⁴⁺的聚集对会玻璃的折射率和透过率等产生影响。

TFT-LCD玻璃基板是液晶面板的载体，生产液晶面板需要在TFT-LCD玻璃基板上通过物理蒸镀、化学气相沉积、刻蚀等工艺镀上电路。液晶面板在显示的过程中需要通电使液晶进行旋转，形成显示画面，若游离的金属离子跑到线路中，会造成电极短路。所以浮法TFT-LCD玻璃基板要求是无碱硼硅酸盐玻璃，并对玻璃基板的富锡层进行管控。

实际生产中，在原材料方面严格管控Na⁺、K⁺等碱金属氧化物的加入，但在其他原材料的生产、加工过程中难免会夹杂一些Na⁺、K⁺等碱金属氧化物。为了避免浮法TFT-LCD玻璃基板表面富锡层对玻璃质量的影响，一般采用控制锡槽内氛围，如通入还原气体H₂，减少渗锡量或在后段采用面研磨的方法，将玻璃表面的富锡层研磨掉。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了去除TFT-LCD玻璃基板中的Na⁺、K⁺等碱金属离子以减少TFT-LCD玻璃的富锡层、减少后段面研磨的研磨量，提高生产效率，提供了一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：

一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的装置，包括窑炉、锡槽、拉边机、退火窑，其特征在于：在锡槽与退火窑之间安装一组（至少4根）二氧化硫通气装置，所述二氧化硫通气装置由TFT-LCD玻璃带空气面（上）金属罩和锡面（下）金属罩和一组二氧化硫吹起管道组成。

一种浮法制备TFT-LCD玻璃基板的方法，包括现有浮法玻璃生产工艺：玻璃料混合、熔制、成型、退火，其特征在于：在成型和退火工段间增加二氧化硫通气步骤，包括以下步骤：

1.选用如下重量份数比的玻璃配合料：SiO₂ 58～63%、B₂O₃ 8～11%、Al₂O₃ 14～18%、CaO 3～8%、MgO 0～4%、SnO 0~1%、ZnO 0～10%，将玻璃配合料投入窑炉进行熔制成玻璃液，玻璃液随后进入锡槽成型成玻璃带；