[实用新型]单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机

权利要求书

1.单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机，其特征在于，包括机台、设置在机台上的真空室，真空室其上部设置至少二十个阴极靶，与真空室连接设有呈波纹管形式的抽气管，抽气管的另一端与分子泵相连，分子泵通过呈波纹管形式的连接管与罗茨泵相连；真空室底部中心位置转动设有样品台，样品台下部设有加热源；真空室底板上固定连接有至少三块蒸镀膜收集板，蒸镀膜收集板上固定连接加热隔板。

2.根据权利要求1所述的单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述阴极靶数量为二十至二十五个；所述样品台及蒸镀膜收集板采用塞钢制成。

3.根据权利要求2所述的单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述蒸镀膜收集板呈角钢状，加热隔板竖直设置；所述加热源为内置加热丝的加热盘，加热隔板内设置加热丝；抽气管及连接管上设置截止阀或气动插板阀。

4.根据权利要求3所述的单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述样品台的数量与蒸镀膜收集板的数量相同；罗茨泵、分子泵、真空室的外表面均设置有标识层；真空室其外表面固定设置驱动电机及减速机，驱动电机与减速机相连，减速机的输出轴与齿轮齿条机构相连，样品台的转轴上固定连接有与齿轮齿条机构相连的辅助齿轮；驱动电机的外表面也设置有标识层，罗茨泵、分子泵、真空室及驱动电机上的标识层其标识不同。