[实用新型]一种基板双面定位曝光工装

权利要求书

1.一种基板双面定位曝光工装，包括下沉台阶(1)，其特征在于：所述下沉台阶(1)的四角设有下沉细棱(2)，所述下沉台阶(1)的顶部活动连接有上沉台阶(3)，所述上沉台阶(3)的四角设有上沉细棱(4)，所述上沉台阶(3)的底端固定连接有连接件(11)，所述连接件(11)的两端活动连接有定位靶标(5)，所述连接件(11)通过定位靶标(5)与下沉台阶(1)活动连接，所述上沉台阶(3)位于连接件(11)的上方活动连接对位靶标(6)，所述下沉台阶(1)顶部的两侧均开设有靶标孔洞(7)，所述下沉台阶(1)的内部设有基板放置腔(8)，所述下沉台阶(1)的内壁固定连接有缓震装置(9)，所述缓震装置(9)顶部的两侧设有固定卡口(10)。

2.根据权利要求1所述的一种基板双面定位曝光工装，其特征在于：所述定位靶标(5)的数量为两个，且定位靶标(5)对称分布于连接件(11)的两侧。

3.根据权利要求1所述的一种基板双面定位曝光工装，其特征在于：所述对位靶标(6)的数量为两个，且两个对位靶标(6)垂直分布。

4.根据权利要求1所述的一种基板双面定位曝光工装，其特征在于：所述缓震装置(9)为橡胶垫，且缓震装置(9)的质地较软。

5.根据权利要求3所述的一种基板双面定位曝光工装，其特征在于：所述两个对位靶标(6)不在同一水平面上。

6.根据权利要求1所述的一种基板双面定位曝光工装，其特征在于：所述下沉台阶(1)与上沉台阶(3)之间的连接较为紧密。