[实用新型]在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备有效
| 申请号： | 201920570946.X | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN210026291U | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 郭四平;周永俊 | 申请（专利权）人： | 常州三提新材料有限公司 |
| 主分类号： | B29C59/16 | 分类号： | B29C59/16;B65H23/26;B82Y40/00;B29L7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213000 江苏省常州市武*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 滚筒 轰击 薄膜 加热器 本实用新型 磁性元件 多孔结构 微纳米 空腔 材料制备领域 超音速喷射 滚筒外表面 微纳米颗粒 薄膜表面 薄膜输送 磁场作用 区域提供 输送机构 输送路径 依次设置 自然形态 磁场 | ||
1.一种在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，包括
滚筒(100)，其具有空腔(110)，在所述空腔内设置有磁性元件(120)；
输送机构(200)，用于输送薄膜(10)；
加热器(300)，其设置于滚筒(100)外侧，用于对滚筒(100)外的薄膜(10)加热；以及
颗粒轰击装置(400)，其设置于滚筒(100)外侧，用于在磁场作用下，向所述滚筒(100)上的薄膜(10)以超音速喷射微纳米颗粒；
其中，所述加热器(300)和颗粒轰击装置(400)沿所述薄膜(10)的输送路径依次设置，所述磁性元件(120)用于向所述颗粒轰击装置(400)与所述滚筒(100)外表面之间的区域提供磁场。
2.根据权利要求1所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述磁性元件(120)固定在所述滚筒(100)的空腔(110)内，可相对于所述滚筒(100)转动。
3.根据权利要求2所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述磁性元件(120)设置在滚筒(100)的内壁上。
4.根据权利要求1所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述输送机构(200)包括沿薄膜(10)输送路径依次设置的输送辊(210)、第一导向辊(220)、第二导向辊(230)和回收辊(240)，第一导向辊(220)和第二导向辊(230)分别设置于滚筒(100)的两侧的底部。
5.根据权利要求1所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述颗粒轰击装置(400)包括：颗粒混匀腔体(410)、料斗(420)、压缩气体入口(430)以及喷嘴(440)；
所述颗粒混匀腔体(410)用于收容所述微纳米颗粒，所述料斗(420)设置在所述颗粒混匀腔体(410)的上方，与所述颗粒混匀腔体(410)连通；所述压缩气体入口(430)设置在所述颗粒混匀腔体(410)上，用于输入压缩气体；所述喷嘴(440)设置在所述颗粒混匀腔体(410)的一侧，用于输出微纳米颗粒，所述喷嘴(440)相对于所述滚筒(100)的外表面设置。
6.根据权利要求5所述的在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，所述颗粒混匀腔体(410)包括与所述喷嘴(440)连接的锥形部(411)；
所述喷嘴(440)包括与所述锥形部(411)连接的一端以及远离所述锥形部(411)的开口(441)；所述微纳米颗粒从所述开口(441)输出；所述喷嘴(440)与所述锥形部(411)连接的一端的横截面积大于与所述开口(441)的横截面积。
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