[实用新型]一种新型的高压MOS管有效

专利信息
申请号: 201920583652.0 申请日: 2019-04-25
公开(公告)号: CN209947841U 公开(公告)日: 2020-01-14
发明(设计)人: 原小明;胡敬全;谷万忠 申请(专利权)人: 南京江智科技有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L23/057;H01L23/367
代理公司: 32344 苏州拓云知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 潘好帅
地址: 210000 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 阱区 外延层 基底 包胶 绝缘氧化层 本实用新型 击穿电压 左右两侧 漏极 源极 高压MOS管 顶部设置 使用寿命 散热层 电阻
【说明书】:

实用新型公开了一种新型的高压MOS管,包括源极、栅极、漏极、基底、下包胶、上包胶和外延层,所述外延层设置在基底上方,外延层顶部中部设置有第二阱区,第二阱区左右两侧分别设置有第一阱区和第三阱区,所述源极底部与第一阱区连接,漏极底部与第三阱区连接,所述第二阱区顶部设置有第二绝缘氧化层,且栅极底部与第二绝缘氧化层连接,所述外延层顶部左右两侧均设置有第一绝缘氧化层,所述下包胶设置在基底下方,上包胶设置在栅极上方,本实用新型的有益效果是:第二阱区作用于增加第一阱区与第三阱区之间的电阻,从而增加击穿电压;外延层与基底之间设置有散热层,能够在电压到达击穿电压时对基底进行保护,增加基底的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及一种MOS管,具体是一种新型的高压MOS管。

背景技术

MOS管通过投影一个电场在一个绝缘层上来影响流过晶体管的电流。事实上没有电流流过这个绝缘体,所以FET管的GATE电流非常小。最普通的FET用一薄层二氧化硅来作为GATE极下的绝缘体。这种晶体管称为金属氧化物半导体(MOS)晶体管,或金属氧化物半导体场效应管。因为MOS管更小更省电,所以他们已经在很多应用场合取代了双极型晶体管。

但是,常见的MOS管其击穿电压较低,且在高电压下工作时容易被烧毁,在电压高于击穿电压时基底容易损坏。因此,本领域技术人员提供了一种新型的高压MOS管,以解决上述背景技术中提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种新型的高压MOS管,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种新型的高压MOS管,包括源极、栅极、漏极、基底、下包胶、上包胶和外延层,所述外延层设置在基底上方,外延层项部中部设置有第二阱区,第二阱区左右两侧分别设置有第一阱区和第三阱区,所述源极底部与第一阱区连接,漏极底部与第三阱区连接,所述第二阱区顶部设置有第二绝缘氧化层,且栅极底部与第二绝缘氧化层连接,所述外延层顶部左右两侧均设置有第一绝缘氧化层,所述下包胶设置在基底下方,上包胶设置在栅极上方,上包胶的侧壁与下包胶的侧壁固定连接,所述上包胶内设置有接地片,接地片底部与栅极连接,源极、栅极和漏极后端均设置有引脚。

作为本实用新型进一步的方案:所述下包胶后壁上对应引脚处设置有插杆,上包胶后壁上对应引脚处设置有凹槽。

作为本实用新型再进一步的方案:所述第一阱区和第三阱区底部均设置有耗尽层。

作为本实用新型再进一步的方案:所述外延层与基底之间设置有散热层。

作为本实用新型再进一步的方案:所述栅极顶部前侧设置有第二凸台,接地片底部后侧设置有第一凸台,所述第一凸台前端与第二凸台贴合。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、第二阱区作用于增加第一阱区与第三阱区之间的电阻,从而增加击穿电压;

2、外延层与基底之间设置有散热层,能够大大提升MOS管的散热性能,以适应高电压下工作,并且由于散热层为导热硅胶,能够在电压到达击穿电压时对基底进行保护,增加基底的使用寿命;

3、接地片与栅极通过两个凸台进行固定连接,增加整体结构的稳定性,并且接地片大面积外漏能增强散热性能。

附图说明

图1为一种新型的高压MOS管的结构示意图;

图2为一种新型的高压MOS管中接地片与栅极的连接结构示意图;

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