[实用新型]一种镭雕机的控制电路有效

专利信息
申请号: 201920607257.1 申请日: 2019-04-29
公开(公告)号: CN210666399U 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 邹远辉;谢清鹏;史洪江 申请(专利权)人: 深圳市嗨兴科技有限公司
主分类号: G05B19/042 分类号: G05B19/042
代理公司: 深圳市科冠知识产权代理有限公司 44355 代理人: 王海骏;孔丽霞
地址: 518000 广东省深圳市龙岗*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 镭雕机 控制电路
【说明书】:

实用新型涉及一种镭雕机的控制电路,激光发射器发射的激光束照射在Y轴反射装置上,Y轴反射装置将激光束反射至X轴反射装置上,最后X轴反射装置将激光束反射至被雕刻物上;通过调节Y轴反射装置和X轴反射装置的反射角度,实现调节激光束的照射位置;并通过测距模块实时测量镭雕机至被雕刻物之间的距离既测量物距,并将测量信号输出给主控电路;当镭雕机开始工作后若测量的物距发生变化,既有物体误入激光束的照射区域,则主控电路关闭激光发射器,以保护激光束照射区域的物体;主控电路还通过角度检测装置检测Y轴反射装置和X轴反射装置的反射角度,进而调节Y轴反射装置和X轴反射装置的反射角度,以使激光束的照射位置更加精准。

技术领域

本实用新型涉及镭雕机技术领域,更具体地说,涉及一种镭雕机的控制电路。

背景技术

现有的镭雕机大多是通过纵向移动装置和横向移动装置来移动激光发射器进行雕刻,或使用机械臂来移动激光发射器进行雕刻,存在着加工精度低,体积大,成本高。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于,针对现有技术的上述缺陷,提供一种加工精度高的镭雕机的控制电路。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:

构造一种镭雕机的控制电路,包括激光发射器和Y轴反射装置以及X轴反射装置,还包括用于控制所述激光发射器的开启与关闭,和控制所述Y轴反射装置以及所述X轴反射装置的反射角度的控制电路;其中,所述Y轴反射装置用于将所述激光发射器发射出的激光束反射至所述X轴反射装置,所述X轴反射装置用于将所述激光束反射至被雕刻物;所述控制电路包括用于检测所述Y轴反射装置和所述X轴反射装置的反射角度的角度检测装置,以及主控电路;所述角度检测装置与所述主控电路连接。

本实用新型所述的镭雕机的控制电路,其中,所述Y轴反射装置包括Y轴反射镜和驱动所述Y轴反射镜旋转的Y轴电机;所述X轴反射装置包括X轴反射镜和驱动所述X轴反射镜旋转的X轴电机;

所述Y轴反射镜的镜面朝向所述激光发射器的激光发射口,所述X轴反射镜位于所述Y轴反射镜的一侧,所述X轴反射镜的镜面朝向所述Y轴反射镜的镜面;所述被雕刻物朝向所述X轴反射镜的镜面。

本实用新型所述的镭雕机的控制电路,其中,所述角度检测装置包括Y轴线性霍尔传感器和X轴线性霍尔传感器;所述Y轴反射镜上设有Y轴磁铁,所述Y轴线性霍尔传感器正对所述Y轴磁铁;所述X轴反射镜上设有X轴磁铁,所述X轴线性霍尔传感器正对所述X轴磁铁。

本实用新型所述的镭雕机的控制电路,其中,所述主控电路为微控制器,所述Y轴线性霍尔传感器的OUT端连接有第一电阻,所述第一电阻的另一端连接有第一电容,所述第一电阻的另一端还与所述微控制器的PC0端连接;所述X轴线性霍尔传感器的OUT端连接有第二电阻,所述第二电阻的另一端连接有第二电容,所述第二电阻的另一端还与所述微控制器的PC1端连接;所述第一电容的另一端和所述第二电容的另一端均接地。

本实用新型所述的镭雕机的控制电路,其中,所述控制电路还包括用于驱动所述激光发射器的第一驱动电路,所述第一驱动电路包括电源管理芯片;

所述电源管理芯片的SW端连接有第三电阻,所述第三电阻的另一端连接有第三电容,所述第三电容的另一端接地;

所述电源管理芯片的VIN端与电源的正极连接;

所述电源管理芯片的EN端为使能端与电源的正极连接或与外部控制电路连接,所述使能端还连接有第四电阻,所述第四电阻的另一端接地;

所述电源管理芯片的ILIM端连接有第五电阻,所述第五电阻的另一端接地;

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