[实用新型]一种镓元素均匀分布的铜铟镓硒薄膜太阳能电池吸收层有效
申请号: | 201920635526.5 | 申请日: | 2019-05-06 |
公开(公告)号: | CN209544363U | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 彭寿;马立云;李刚;姚婷婷;王天齐;彭塞奥;金克武 | 申请(专利权)人: | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/0352 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 陈俊 |
地址: | 233010 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 吸收层 镓元素 铜铟镓 膜层 铜铟镓硒薄膜太阳能电池 铜铟镓硒吸收层 基础吸收 前驱体 硒膜 薄膜太阳能电池 光电转换效率 本实用新型 开路电压 硒化反应 带隙 叠层 硒层 背面 | ||
本实用新型公开一种镓元素均匀分布的铜铟镓硒薄膜太阳能电池吸收层,包括m组相层叠的基础吸收层,每组基础吸收层均包含由下至上层叠的铜铟镓膜层与硒膜层,2≤m≤5;通过在铜铟镓膜层中插入硒膜层,解决了铜铟镓硒吸收层中镓元素分布不均的问题,由于前驱体叠层中硒层两侧与铜铟镓膜层均接触,硒化反应往前驱体两侧进行,使得镓的梯度沿吸收层背面和吸收层表面两个方向,从而促进镓元素在铜铟镓硒吸收层中深度分布及吸收层带隙宽度的增大,进而提高薄膜太阳能电池的开路电压及光电转换效率。
技术领域
本实用新型涉及薄膜太阳能电池技术领域,具体是一种镓元素均匀分布的铜铟镓硒薄膜太阳能电池吸收层。
背景技术
太阳能作为一种重要的可再生能源,受到广泛的关注并得到快速发展。随着光伏技术的持续发展和进步,光伏发电成本不断下降,光伏发电竞争力持续增强,可以预见,全球光伏市场在未来很长一段时间内将继续保持高速增长。
与传统晶硅、非晶硅电池相比,铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池作为新一代的薄膜电池,具备弱光发电性能好、成本低、温度系数低、能源回收期短、寿命长、发电稳定、抗辐射能力强、生产工艺无污染等优势,被业界评为“太阳能能源的未来”,市场前景巨大。CIGS是一种直接带隙的P型半导体材料,其吸收系数高达105/cm,2μm厚的CIGS薄膜就可吸收90%以上的太阳光。铜铟镓硒电池转换效率在薄膜太阳能电池中是最高的,2017年12月达到了22.9%的光电转换效率,因此日本、德国等国家都投入巨资进行研究和产业化。
CIGS吸收层的制备是铜铟镓硒薄膜太阳能电池的核心工艺。目前,国际上制备CIGS薄膜的工艺主要有两类,一类是由美国可再生能源国家实验室(NREL)发展出的“共蒸法”,另一类是以Solar Frontier、Avancis等公司为代表使用的“溅射后硒化法”。作为实验室里制备小面积的铜铟镓硒薄膜太阳能电池时,共蒸法沉积的CIGS薄膜质量较好,电池效率较高,但蒸发无法精确控制元素比例、重复性差、材料利用率不高、很难实现大面积均匀稳定成膜,因而限制其在大规模工业化生产中的应用。而溅射后硒化法工艺相对简单,可以在大面积玻璃衬底上溅射金属合金层,可以精确控制铜、铟、镓元素的比例、后硒化材料可以采用气态或固态的硒源,制备的薄膜性能优良,非常适合大面积开发,因此溅射后硒化法被视作更理想的产业化路线。
在溅射后硒化法中,CIGS吸收层的形成是堆叠元素前驱体一系列的硒化过程。然而,CIGS吸收层通常在靠近背电极的底层处显示出明显的Ga元素偏析的现象,这种效应的起因在于含In和Ga化合物的不同反应动力学。由于形成Ga的硒化物相的反应温度比形成Cu和In的硒化物温度高约100℃,所以富Ga相在堆叠层的底部区域中累积,直到在那里形成富Ga的CIGS吸收层。一旦发生形成黄铜矿CIGS吸收层的反应,所建立的梯度只能通过In和Ga的相互扩散来弛豫,而此过程需要较大的热激活能,即使在较高的退火温度下,增加退火时间,也只有很少的相互扩散能够实现。CIGS薄膜中掺Ga的目的是为了增加吸收层材料的带隙宽度,使其在1.04eV到1.67eV范围内连续可调,并实现与太阳光谱的最佳匹配。但是Ga偏析的问题,会降低电池的开路电压,从而影响光电转换效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种镓元素均匀分布的铜铟镓硒薄膜太阳能电池吸收层,该吸收层解决了现有产品中存在的Ga偏析的问题,提高薄膜太阳能电池的开路电压及光电转换效率。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种镓元素均匀分布的铜铟镓硒薄膜太阳能电池吸收层,包括m组相层叠的基础吸收层,每组基础吸收层均包含由下至上层叠的铜铟镓膜层与硒膜层,2≤m≤5。
进一步的,所述铜铟镓膜层包括n组由铜镓膜层与铟膜层堆叠构成的复合膜层,1≤n≤10。
进一步的,所述铜铟镓膜层包括n组由铜铟膜层与镓膜层堆叠构成的复合膜层,1≤n≤10。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司,未经中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920635526.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的