[实用新型]一种锗单晶炉热场清理工作台

说明书

本实用新型公开了一种锗单晶炉热场清理工作台，包括密封工作箱组件、加工台组件和手动开箱组件，石墨件在电机的带动下进行转动加工，加工过程中的粉尘由第一吸尘口和第二吸尘口吸入到中空的密封箱体的箱体板壁内部，第一吸尘口和第二吸尘口的开设高度不一，有效减少粉尘吸收的死角，增大粉尘的吸收速度，将密封盖盖在密封箱体上，通过第一吸尘口正吸、第二吸尘口反吹的方式完成剩余粉尘的清理吸入，左右交错的长锯齿状结构卡合在密封箱体的箱体板侧壁上，加强密封效果，有效避免粉尘遗漏，手动拉伸轴带动齿条后退，使得齿轮通过连接杆带动弧形转动臂顺时针旋转将密封盖提起，避免良好密封情况下工作人员无法将密封盖提起，使用便捷，增加实用性。

技术领域

本实用新型涉及锗单晶炉热场清理技术领域，具体为一种锗单晶炉热场清理工作台。

背景技术

锗单晶炉是一种在惰性气体环境中，用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生长无错位锗单晶的设备，锗单晶炉热场是锗单晶炉中必备部件，主要由柱状等静压石墨加工而成，加热、保温、热屏、防漏(硅)等均是通过热场来实现的，锗单晶炉热场在运行一炉完成后，需要对其进行拆炉清理，清除附着在石墨件上的碳化硅、硅蒸汽等杂质。

当前清理石墨件上附着杂质时，操作人员在石墨清理间内作业，主要采用百洁布和小型研磨机，在打磨杂质时容易造成扬尘，粉尘较多，清理作业环境较差，故采用吸尘装置对粉尘进行吸除，为了减轻工作人员的清理负担，采用固定式的吸尘装置对粉尘进行吸除，死角较多，粉尘的吸收速度慢，后出现的改善方式采用两组吸尘口正吸和反吹的方式全面清除死角粉尘，但是清理工作台的密封性不高，导致粉尘溢散，变相增加工作人员的清理负担，然而密封性好的清理工作台端盖难打开，使用不够便捷，实用性差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种锗单晶炉热场清理工作台，具备有效减少粉尘吸收的死角，增大粉尘的吸收速度，避免粉尘堆积对石墨件加工造成的影响，密封效果强，有效避免粉尘遗漏，改善工作环境，减轻工作人员的清理负担，避免良好密封情况下工作人员无法将密封盖提起，使用便捷的优点，可以解决现有技术中死角较多，粉尘的吸收速度慢，密封性不高的清理工作台粉尘容易溢散，密封性高的清理工作台端盖难打开，使用不够便捷的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种锗单晶炉热场清理工作台，包括密封工作箱组件、加工台组件和手动开箱组件，密封工作箱组件的内部安装加工台组件，加工台组件的底部与手动开箱组件固定连接，手动开箱组件位于密封工作箱组件的下方，密封工作箱组件包括密封箱体、弧形转动环、转轴、侧安装架、支撑底板和密封盖，密封箱体的背部外部固定安装两组侧安装架，侧安装架的底部固定在支撑底板上，两组侧安装架之间活动安装转轴，转轴的外壁包覆弧形转动环，弧形转动环与密封盖的侧壁固定连接，密封箱体的内部安装加工台组件；

加工台组件包括石墨放置台、支撑曲柱、第一吸尘口、底座和第二吸尘口，石墨放置台设置为环形镂空结构，石墨放置台的底部通过支撑曲柱与底座固定连接，底座的外壁固定安装环形的第一吸尘口，底座的底部与密封箱体的底面接触连接，密封箱体的侧壁上环绕设置第二吸尘口，第二吸尘口的高度低于石墨放置台的顶面高度，底座的底部设有对接口，对接口与手动开箱组件固定连接；

手动开箱组件包括箱体壁、电机安装台、电机、手动拉伸轴、偏差件、齿条、齿轮、连接杆、对接桩和弧形转动臂，箱体壁的顶面与密封箱体的底面固定连接，箱体壁的底面通过电机安装台固定连接电机，电机的侧面设有手动拉伸轴，手动拉伸轴的一端伸出箱体壁，手动拉伸轴的另一端通过螺栓与偏差件相接，偏差件的端焊接齿条，齿条与齿轮啮合，齿轮固定安装在连接杆上，连接杆的两端在两组对接桩的内部转动，连接杆的两端均固定安装弧形转动臂，弧形转动臂的另一端与弧形转动环的外表面固定连接。

优选的，所述第一吸尘口的直径尺寸大于石墨放置台的直径尺寸。

优选的，所述密封盖的两侧边沿设置为左右交错的长锯齿状结构，密封盖的形状尺寸与密封箱体顶部的形状尺寸一致。