[实用新型]一种均匀稀释高分子表面活性剂的装置

权利要求书

1.一种均匀稀释高分子表面活性剂的装置，其特征在于，包括：底座、翻转机构和驱动机构，所述底座上安装有翻转机构，所述翻转机构包括转轴，所述转轴上设有用于固定试管的固定件，所述试管垂直于所述转轴安装，所述驱动机构用于驱动所述翻转机构实现翻转。

2.根据权利要求1所述的一种均匀稀释高分子表面活性剂的装置，其特征在于，所述翻转机构通过垂直于所述底座的安装杆安装于所述底座上。

3.根据权利要求2所述的一种均匀稀释高分子表面活性剂的装置，其特征在于，所述固定件为设有多个固定位的圆盘，所述试管呈辐射状固定于所述圆盘上，所述转轴的翻转角度为360°。

4.根据权利要求1所述的一种均匀稀释高分子表面活性剂的装置，其特征在于，所述翻转机构包括水平设置的互相平行且能够往复运动的齿形链，所述转轴的两端分别设有与所述齿形链适配的链轮，所述转轴通过所述链轮与所述齿形链的啮合在所述齿形链上往复翻转，所述转轴水平翻转的角度为180°。

5.根据权利要求1所述的一种均匀稀释高分子表面活性剂的装置，其特征在于，所述驱动机构通过电机实现对所述翻转机构的驱动，所述电机与所述转轴电连接。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的一种均匀稀释高分子表面活性剂的装置，其特征在于，还包括控制器，所述控制器与所述驱动机构电连接以控制所述驱动机构。

7.根据权利要求6所述的一种均匀稀释高分子表面活性剂的装置，其特征在于，所述驱动机构及所述控制器均安装于所述底座内。

8.根据权利要求1所述的一种均匀稀释高分子表面活性剂的装置，其特征在于，所述翻转机构的翻转速度为10-20转/分。