[实用新型]真空连续沉浸用浸渍装置

权利要求书

1.真空连续沉浸用浸渍装置，包括由动力装置驱动可在竖直方向移动的缸体、安装于浸渍工位上的缸盖，缸盖上设置有与抽真空系统连通的抽真空管，缸盖上或缸体上设置有将缸盖和缸体之间密封配合的第一密封结构；其特征在于：所述缸体上安装有缸内进回漆管，该缸内进回漆管的下端延伸至缸体的底部；所述缸盖上安装有缸盖进回漆管，所述缸内进回漆管的上端和缸盖进回漆管的下端之间设置有第二密封结构，所述缸盖进回漆管用于与供回漆系统相连。

2.如权利要求1所述的真空连续沉浸用浸渍装置，其特征在于：所述缸体上设置有管支架，所述缸内进回漆管竖直滑动安装于管支架上，且缸内进回漆管与管支架的上部之间设置有弹簧，所述缸盖进回漆管固定在缸盖上且下端与缸内进回漆管竖直对齐。

3.如权利要求1所述的真空连续沉浸用浸渍装置，其特征在于：所述缸内进回漆管固定在缸体内且竖直设置，所述缸盖进回漆管竖直滑动安装于缸盖上且与缸盖之间设置有弹簧，缸盖进回漆管与供回漆系统通过软管相连，该弹簧的弹力迫使第二密封结构密封。

4.如权利要求2或3所述的真空连续沉浸用浸渍装置，其特征在于：所述第二密封结构包括固定于缸内进回漆管上端的下法兰，设置于缸盖进回漆管下端的上法兰，上法兰的端面和下法兰的端面之间密封配合。

5.如权利要求4所述的真空连续沉浸用浸渍装置，其特征在于：所述缸内进回漆管的管径大于缸盖进回漆管的管径。

6.如权利要求2或3所述的真空连续沉浸用浸渍装置，其特征在于：所述第二密封结构包括固定于缸内进回漆管上端的下法兰，下法兰上设置有密封锥孔，所述缸盖进回漆管的下端设置有与密封锥孔密封配合的密封锥部。

7.如权利要求2或3所述的真空连续沉浸用浸渍装置，其特征在于：所述缸盖固定在浸渍工位上，所述动力装置包括升降机，所述缸体固定于升降机上，该升降机水平滑动安装于水平滑轨上且由水平直线动力装置驱动。

8.如权利要求2或3所述的真空连续沉浸用浸渍装置，其特征在于：所述缸盖竖直滑动安装于浸渍工位上由竖直动力装置驱动竖直滑动，所述缸体固定于升降机上，所述缸体的上沿和缸盖的下沿分别设置有容纳悬挂轴的容纳槽，该容纳槽内设置有上密封垫和下密封垫。

9.如权利要求2所述的真空连续沉浸用浸渍装置，其特征在于：所述缸体的底部设置有与缸内进回漆管下端位置适配的凹槽。