[实用新型]一种整体金属化镀膜的离子迁移管有效

专利信息
申请号: 201920667808.3 申请日: 2019-05-10
公开(公告)号: CN209929259U 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 黄彬;梁华良;周朝涛 申请(专利权)人: 昆明天龙经纬电子科技有限公司
主分类号: H01J49/06 分类号: H01J49/06
代理公司: 53100 昆明正原专利商标代理有限公司 代理人: 陈左
地址: 650000 云南省昆明市*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 离子控制器 离子迁移管 整体金属 离化区 镀膜 飘移 制作 生产周期 本实用新型 离子迁移谱 离子检测 离子迁移 陶瓷基体 一端连接 仪器生产 整体制作 制作周期 组件连接 导电环 电离室 金属环 陶瓷环 多段 打磨 焊接 精密 管制 制造
【说明书】:

本实用新型公开一种整体金属化镀膜的离子迁移管,包括在离化区组件两端分别设置的电离室组件和离子控制器组件,离子控制器组件连接在离化区组件和飘移区组件之间,飘移区组件另一端连接离子检测组件,由整体制作的陶瓷基体和整体金属化镀膜,再通过精密打磨的工艺进行导电环制作,对离子迁移管的制作提出了新的工艺,尤其避免了使用多段陶瓷环、金属环焊接制作带来的成本高、制作周期长和易损坏等弱点,降低了离子迁移管制作的难度、成本和生产周期,为基于离子迁移谱(IMS)技术的仪器生产制造带来很好的经济和社会效益。

技术领域

本实用新型涉及气体物质测定测试仪器领域,具体来说是一种整体金属化镀膜的离子迁移管。

背景技术

目前基于离子迁移谱(IMS)技术的离子迁移管,多使用陶瓷与金属间隔焊接构成,中间插入离子控制组件,其结构复杂,尤其存在成本高、制作周期长和易损坏等弱点。

发明内容

本实用新型的目的在于针对上述现有技术中存在的不足,提供一种整体金属化镀膜的离子迁移管,对离子迁移管的制作提出了新的工艺,尤其避免了使用多段陶瓷环、金属环焊接制作带来的成本高、制作周期长和易损坏等弱点,降低了离子迁移管制作的难度、成本和生产周期,为基于离子迁移谱(IMS)技术的仪器生产制造带来很好的经济和社会效益。

本实用新型通过如下技术方案予以实现:

一种整体金属化镀膜的离子迁移管,包括在离化区组件两端分别设置的电离室组件和离子控制器组件,离子控制器组件连接在离化区组件和飘移区组件之间,飘移区组件另一端连接离子检测组件;

所述电离室组件包括电离室主体和电离室电路板,所述电离室主体沿轴向设置两个用于放置高压电极的孔,所述电离室电路板通过密封垫连接电离室主体;

所述离化区组件和飘移区组件均分别由整体金属化镀膜的两根陶瓷管构成,陶瓷管的两端连接有金属法兰盘、陶瓷管上设置距离相等的环状金属化电极环,电极环通过过线孔引出与外电路连接;

所述离子控制器组件包括连接件主体,连接件主体通过密封垫连接由前栅电极和后栅电极交错排列形成的平行栅网,前栅电极和后栅电极间设置有绝缘垫;

所述离子检测组件包括连接件主体、屏蔽电极、绝缘垫、离子接收放大电路板和放大器端盖,连接件主体依次连接密封垫、屏蔽电极、绝缘垫、离子接收放大电路板和放大器端盖。

优选的,所述离化区组件,陶瓷管左端的金属法兰盘通过密封垫连接电离室主体,右端的金属法兰盘通过密封垫连接离子控制器组件的连接件主体,陶瓷管两端的金属法兰盘上对称开有用于螺杆连接的孔。

优选的,所述飘移区组件,整体金属化镀膜的陶瓷管左端的金属法兰盘通过密封垫连接离子控制器组件的后栅电极,陶瓷管右端的金属法兰盘通过密封垫连接离子检测组件的连接件主体,陶瓷管两端的金属法兰盘上对称开有用于螺杆连接的孔。

优选的,所述的连接件主体和电离室主体采用PEEK材料通过机械加工成型,设有16个组装螺丝孔,厚度控制在8-15mm。

优选的,所述密封垫采用聚四氟乙烯薄片通过模具冲压成型,所述绝缘垫采用PEEK材料通过模具冲压成型,厚度均控制在0.1-0.3mm。

优选的,所述金属法兰盘厚度控制在2.5-3.2mm。

优选的,所述陶瓷管的内径24mm,外径30mm;离化区分8段电极环,飘移区分14段电极环。

优选的,离化区和飘移区的两根陶瓷管,管体错开22.5°装配;电离室电路板与离化区错开22.5o装配;离子接收放大电路板和放大器端盖与飘移区错开22.5o装配。

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