[实用新型]柔性透明电磁屏蔽膜及制备装置

权利要求书

1.柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，它包括在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、位于沉积阴极室内的阴极靶材，其特征是，连续移动的柔性有机透明基材依次通过各磁控溅射装置的沉积阴极室，通过各磁控溅射装置的溅射，并控制通入各沉积阴极室的氧气和惰性气体的流量，使得阴极靶材氧化物一次性沉积在柔性有机透明基材的上下表面；在真空镀膜腔内设置有用于避免阴极靶材氧化物沉积残渣掉落于柔性有机透明基材上而对沉积质量产生影响的防污装置。

2.根据权利要求1所述的柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，其特征是，磁控溅射装置包括阴极靶材分别是Si、Al、Si、Nb、Si、Si、AZO、Al的第一至第八磁控溅射装置，各磁控溅射装置沉积阴极室内均通入作为反应气体的氧气；先后由第一、第二磁控溅射装置作用在柔性有机透明基材上表面依次沉积SiO₂阻隔层、Al₂O₃透明硬化层，继而先后由第三至第八磁控溅射装置作用在柔性有机基材下表面依次沉积SiO₂阻隔层、NbO_X（0≤x≤5、）调节层1、SiO₂调节层2、SiO_X（0≤x≤2）调节层3、AZO透明磁屏蔽层、Al₂O₃透明硬化层。

3.根据权利要求2所述的柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，其特征是，第一磁控溅射装置中，氧气流量12sccm、氩气流量500 sccm、溅射功率2.0KW，真空度达到4×10^-3 torr；

第二磁控溅射装置中，氧气流量10sccm、氩气流量450 sccm、溅射功率20.0KW，真空度达到4×10^-3 torr；

第三磁控溅射装置中，氧气流量12sccm、氩气流量500 sccm、溅射功率2.0KW，真空度达到4×10^-3 torr；第四磁控溅射装置中，氧气流量50sccm、氩气流量400 sccm、功率16.4KW，真空度达到4×10^-3 torr；

第五磁控溅射装置中，氧气流量10sccm、氩气流量450 sccm、溅射功率20.0KW，真空度达到4×10^-3 torr；

第六磁控溅射装置中，氧气流量10sccm、氩气流量450 sccm、溅射功率20.0KW，真空度达到4×10^-3 torr；

第七磁控溅射装置中，氧气流量2sccm、氩气流量300 sccm、溅射功率10.0KW，真空度达到4×10^-3 torr；

第八磁控溅射装置中，氧气流量10sccm、氩气流量450 sccm、溅射功率20.0KW，真空度达到4×10^-3 torr。

4.根据权利要求2所述的柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，其特征是，它包括一个具有放卷腔、真空镀膜腔和收卷腔的腔体，放卷腔、收卷腔内分别设置用于连续放料的放卷台、用于连续收料的收卷台，真空镀膜腔内设置第一、第二冷鼓；第一、第二磁控溅射装置绕第一冷鼓周向设置，第三、第四、第五、第六、第七、第八磁控溅射装置绕第二冷鼓周向设置；柔性有机透明基材从放卷台上放出后导入第一冷鼓、经第一冷鼓冷却、穿过第一、第二磁控溅射装置沉积阴极室后形成单面膜由第一冷鼓导出；单面膜导入第二冷鼓、经第二冷鼓冷却、穿过第三、第四、第五、第六、第七、第八磁控溅射装置沉积阴极室后形柔性透明电磁屏蔽膜被收卷台收卷；柔性有机透明基材下表面移动设置在第一冷鼓上，单面膜的上表面移动设置在第二冷鼓上。

5.根据权利要求4所述的柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，其特征是，第一、第二磁控溅射装置绕第一冷鼓周向设置在第一冷鼓左侧，第三、第四、第五、第六、第七、第八磁控溅射装置绕第二冷鼓周向设置在第二冷鼓右侧；柔性有机透明基材由第一冷鼓上方导入、由第一冷鼓下方引出后，再由第二冷鼓上方导入、由第二冷鼓下方引出。