[实用新型]一种立式真空清洗炉

权利要求书

1.一种立式真空清洗炉，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)顶端四角均固定安装有支架(2)，所述支架(2)顶端的中部固定安装有真空清洗炉(3)，所述支架(2)的顶端的中部活动套接有位于真空清洗炉(3)外部的护栏(4)，所述护栏(4)底端的两侧分别固定连接有方杆(5)，所述支架(2)顶端的两侧分别活动套接有活动杆(6)，所述支架(2)顶端的两侧分别活动套接有环形弹簧(7)，所述底座(1)底端的两侧分别固定连接有液压杆(8)，两个所述液压杆(8)的底端分别固定连接有活动板(9)，所述底座(1)底端的两侧分别开设有位于两个液压杆(8)之间的矩形槽(10)，所述矩形槽(10)内腔顶端的中部活动套接有转筒(11)，所述转筒(11)的内部螺纹套接有螺纹杆(12)，所述螺纹杆(12)的两侧分别开设有限位槽(13)，所述底座(1)顶端的两侧分别固定连接有限位杆(14)，所述限位杆(14)的数量为四个且每两个一组，所述螺纹杆(12)的底端固定连接有矩形板(15)，所述矩形板(15)底端的四角分别固定安装有万向轮(16)。

2.根据权利要求1所述的一种立式真空清洗炉，其特征在于：所述方杆(5)的数量为两个，两个所述方杆(5)的中部开设有方孔。

3.根据权利要求1所述的一种立式真空清洗炉，其特征在于：所述活动杆(6)的数量为两个，两个所述活动杆(6)的一端分别与两个方杆(5)上方孔的内部活动套接。

4.根据权利要求1所述的一种立式真空清洗炉，其特征在于：所述环形弹簧(7)的一端与活动杆(6)的一侧的底端固定连接，所述环形弹簧(7)的另一端与支架(2)顶端的一侧固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种立式真空清洗炉，其特征在于：所述活动板(9)的底端固定连接有橡胶条，所述活动板(9)上橡胶条的数量为五个。

6.根据权利要求1所述的一种立式真空清洗炉，其特征在于：所述螺纹杆(12)的数量为两个，所述螺纹杆(12)的长度值大于矩形槽(10)内部的深度值。

7.根据权利要求1所述的一种立式真空清洗炉，其特征在于：所述转筒(11)底部的四角分别活动套接有滚珠，所述转筒(11)上滚珠的外部均与矩形槽(10)的内腔滑动连接。

8.根据权利要求1所述的一种立式真空清洗炉，其特征在于：所述限位杆(14)的一端贯穿并延伸至限位槽(13)的内部，且限位杆(14)的外部与限位槽(13)的内部滑动连接。

9.根据权利要求1所述的一种立式真空清洗炉，其特征在于：所述万向轮(16)的数量为八个，八个所述万向轮(16)每四个一组分别分布在两个矩形槽(10)的内腔。