[实用新型]一种环氧树脂光刻胶SU-8使用的优化系统

说明书

本实用新型公开了一种环氧树脂光刻胶SU‑8使用的优化系统，包括进行整体操作过程的无尘间，同时包括用于光刻胶过程的涂胶系统、烘烤系统以及曝光系统三组系统体系，所述无尘间的内部沿水平方向均匀布置有涂胶系统、烘烤系统以及曝光系统三组系统体系，且无尘间的内部位于烘烤系统的一侧放置有除湿机，所述涂胶系统、烘烤系统以及曝光系统三组系统体系均隔离放置，所述除湿机的控制精度为1％。本实用新型所述的一种环氧树脂光刻胶SU‑8使用的优化系统，在使用时能够节约成本，只需添加一步高精度的除湿机即可，并且很好地解决了SU‑8对湿度要求敏感的问题，同时还能与其他普通光刻胶兼用，带来更好的使用前景。

技术领域

本实用新型涉及光刻胶技术领域，特别涉及一种环氧树脂光刻胶SU-8使用的优化系统。

背景技术

环氧树脂型光刻胶SU-8是光刻胶领域里的一种可以实现高深宽比、高侧壁垂直度的厚度范围极宽的负性化学放大光刻胶。现在被广泛应用在MEMS、微流控等领域。

虽然其相对普通光刻胶的优势十分明显，但是相对普通光刻胶，其工艺条件要求还相对较高，无论是工艺参数条件，还是工艺环境条件，都相对比较高。尤其这两年SU-8被逐渐应用在小型生产方面，若不能有效控制工艺环境条件，就很难保证实现批量产品性能的稳定性。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种环氧树脂光刻胶SU-8使用的优化系统，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种环氧树脂光刻胶SU-8使用的优化系统，包括进行整体操作过程的无尘间，同时包括用于光刻胶过程的涂胶系统、烘烤系统以及曝光系统三组系统体系，所述无尘间的内部沿水平方向均匀布置有涂胶系统、烘烤系统以及曝光系统三组系统体系，且无尘间的内部位于烘烤系统的一侧放置有除湿机。

优选的，所述涂胶系统、烘烤系统以及曝光系统三组系统体系均隔离放置。

优选的，所述除湿机的控制精度为1％。

优选的，所述无尘间的内部为黄光无尘环境。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：该环氧树脂光刻胶SU-8 使用的优化系统，在使用的过程中，改善成本低，只需添加一步高精度的除湿机即可，并且很好地解决了SU-8对湿度要求敏感的问题，同时还能与其他普通光刻胶兼用，相对于传统方式更好。

附图说明

图1为本实用新型一种环氧树脂光刻胶SU-8使用的优化系统的整体结构示意图。

图中：1、无尘间；2、涂胶系统；3、烘烤系统；4、曝光系统；5、除湿机。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

如图1所示，一种环氧树脂光刻胶SU-8使用的优化系统，包括进行整体操作过程的无尘间1，同时包括用于光刻胶过程的涂胶系统2、烘烤系统3以及曝光系统4三组系统体系，无尘间1的内部沿水平方向均匀布置有涂胶系统2、烘烤系统3以及曝光系统4三组系统体系，且无尘间1的内部位于烘烤系统3的一侧放置有除湿机5；

涂胶系统2、烘烤系统3以及曝光系统4三组系统体系均隔离放置；

除湿机5的控制精度为1％；

无尘间1的内部为黄光无尘环境，且无尘间1的内部正常控制湿度为40％-60％。