[实用新型]一种雾化装置

说明书

本实用新型涉及机械设备技术领域，公开一种雾化装置，其包括阀芯、阀体及弹簧，弹簧设于阀芯的一端，且处于压缩状态，使阀芯的另一端抵接于阀体，阀体内设有阀腔，阀芯穿过阀腔，阀腔内的液体能够推动阀芯压缩弹簧，使阀芯的另一端与阀体分离，阀芯与阀体分离而形成间隙，间隙连通阀腔和外界，液体经间隙雾化。本实用新型向阀腔内通入具有一定压力的液体时，液体对阀腔内的阀芯产生压力，若此压力在阀芯的轴线方向的分力大于弹簧被压缩时的弹簧力时，阀芯产生轴向移动，并继续压缩弹簧，阀芯的另一端与阀体分离，阀芯与阀体之间存在极小的间隙，该间隙与外界连通，液体经该间隙雾化。

技术领域

本实用新型涉及机械设备技术领域，尤其涉及一种雾化装置。

背景技术

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)是向保持特定压力、特定温度条件下的工艺腔室内通入两种以上气体，气体混合后发生反应从而在目标基片上沉积薄膜的工艺，由于其具有绕镀性好、可沉积复杂化合物等特性，在半导体行业有广泛应用。通常目标薄膜的组成元素由液态的药源提供，使用时需对其进行雾化。

目前CVD设备将液态源进行雾化一般有两种方式，一种是载气携带，另一种是通过加热蒸发实现液态源的汽化并向反应腔室供气。这两种方式受气流稳定性、温度、饱及蒸气压例等因素影响，无法精确控制携带出的前驱气体量，蒸发效率有限，大流量供应时容易出现供气不稳定等问题。

实用新型内容

基于以上所述，本实用新型的目的在于提供一种雾化装置，解决了现有技术存在的由于受气流稳定性、温度、饱和蒸气压力等因素影响，而无法精确控制气体量，使得大流量供应时容易产生供气不稳定。

为达上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种雾化装置，包括阀芯、阀体及弹簧，所述弹簧设于所述阀芯的一端，且处于压缩状态，使所述阀芯的另一端抵接于所述阀体，所述阀体内设有阀腔，所述阀芯穿过所述阀腔，所述阀腔内的液体能够推动所述阀芯压缩所述弹簧，使所述阀芯的另一端与所述阀体分离而形成间隙，所述间隙连通所述阀腔和外界，所述液体经所述间隙雾化。

作为一种雾化装置的优选方案，所述阀芯包括顶杆，所述弹簧抵接于所述顶杆，所述顶杆的一端抵接于所述弹簧。

作为一种雾化装置的优选方案，所述阀芯还包括阀杆，所述阀杆包括第一阀杆和第二阀杆，所述第一阀杆的一端与所述顶杆的另一端连接，所述第一阀杆的另一端位于所述阀腔内，且与第二阀杆的一端连接，所述第一阀杆的另一端的横截面积不小于所述第二阀杆的横截面积。

作为一种雾化装置的优选方案，所述阀体上设有气体口和液体口，所述气体口和所述液体口均与所述阀腔连通。

作为一种雾化装置的优选方案，所述气体口内设有单向阀，所述单向阀包括单向阀阀芯、与所述单向阀阀芯抵接的单向阀弹簧及套设于所述单向阀阀芯外的柱体，所述柱体上设有若干平衡孔，若干所述平衡孔沿所述柱体周向分布，且每个所述平衡孔的中心轴线均与所述单向阀阀芯的中心轴线垂直。

作为一种雾化装置的优选方案，所述雾化装置还包括弹簧座和旋钮，所述旋钮螺纹连接于所述弹簧座，所述旋钮能够相对于所述阀体转动，至少部分所述弹簧座位于所述旋钮内，所述旋钮转动时，所述弹簧座能够沿所述弹簧的中心轴线方向移动。

作为一种雾化装置的优选方案，还包括指针，所述指针安装于所述弹簧座上，所述指针用于显示所述弹簧的弹簧力。

作为一种雾化装置的优选方案，还包括固定于所述阀体上的阀盖，所述阀盖上设有导向槽，所述导向槽用于使所述弹簧座沿所述弹簧的中心轴线方向移动。

作为一种雾化装置的优选方案，所述雾化装置还包括固定于所述阀体上的波纹管，所述波纹管罩设于所述弹簧外，并位于所述阀盖和所述阀体之间。