[实用新型]一种蚀刻液多级错层补偿萃取装置有效
申请号: | 201920734587.7 | 申请日: | 2019-05-21 |
公开(公告)号: | CN210096998U | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
发明(设计)人: | 潘江国;卢大伟;刘腾;方常 | 申请(专利权)人: | 浙江展邦电子科技有限公司 |
主分类号: | B01D11/04 | 分类号: | B01D11/04;C23F1/46 |
代理公司: | 杭州昱呈专利代理事务所(普通合伙) 33303 | 代理人: | 雷仕荣 |
地址: | 325016 浙江省温州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蚀刻 多级 补偿 萃取 装置 | ||
本实用新型公开了一种蚀刻液多级错层补偿萃取装置,包括萃取箱、安装在萃取箱底部四个拐角处的支撑腿和排液管,所述萃取箱的内部两侧呈竖直对称开设有两组升降滑槽,所述萃取箱的内侧呈水平滑嵌有两组升降架,且两组升降架的外部靠近升降滑槽的一侧均固定连接有升降滑块。本实用新型中,首先,内部设置有多级错层式萃取机构,这种结构可实现萃取液的多级错层分离处理,既便于蚀刻液的萃取加工使用,同时也提升了萃取装置的萃取加工的效率,其次,内部设置有滤液及清洁机构,这种结构可实现萃取液的过滤以及滤网的自清洁处理,既提升了萃取液萃取处理的质量,同时有提升了萃取装置的功能性。
技术领域
本实用新型涉及蚀刻液萃取加工设备技术领域,尤其涉及一种蚀刻液多级错层补偿萃取装置。
背景技术
蚀刻液是通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。从理论上讲,凡能氧化钢而生成可溶性铜盐的试剂,都可以用来蚀刻敷铜箔板,但权衡对抗蚀层的破坏情况、蚀刻速度,蚀刻系数、溶铜容量、溶液再生及铜的回收、环境保护及经济效果等方面。
然而现有的蚀刻液补偿萃取装置仍存在不足之处:首先,大多采用整体式结构,内部无设置多级错层式萃取机构,无法将分层的萃取液进行分离式萃取处理,不便于蚀刻液的萃取使用,其次,内部无设置滤液及清洁机构,无法将萃取后的萃取液进行过滤处理,易导致蚀刻液中有杂质产生,同时无法实现滤网的自清洁处理。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:为了解决内部无设置多级错层式萃取机构,无法将分层的萃取液进行分离式萃取处理,且无法将萃取后的萃取液进行过滤处理及清洁的问题,而提出的一种蚀刻液多级错层补偿萃取装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种蚀刻液多级错层补偿萃取装置,包括萃取箱、安装在萃取箱底部四个拐角处的支撑腿和排液管,所述萃取箱的内部两侧呈竖直对称开设有两组升降滑槽,所述萃取箱的内侧呈水平滑嵌有两组升降架,且两组升降架的外部靠近升降滑槽的一侧均固定连接有升降滑块,所述萃取箱内侧位于萃取箱和两组升降架之间均固定连接有折叠密封板,所述两组升降架的内部均呈水平滑嵌有贯穿升降架的隔板,所述萃取箱的底部中心处呈竖直连通有过滤筒,且过滤筒的内侧安装有滤网,所述过滤筒的内侧位于滤网之间通过轴承套转动连接有转轴,且转轴的外端面呈环形安装有多组呈倾斜设置的阻流叶片,所述过滤筒的底部中心处呈竖直连通有排液管。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述升降滑槽的内表壁和升降滑块的外表壁相互贴合,且升降滑块和升降滑槽呈间隙配合。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述支撑腿的外侧套接有滑套,且滑套的顶部开口处外侧呈水平滑嵌有贯穿滑套的滑柱。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述支撑腿的内部靠近滑柱的一侧呈直线等距开设有多组配合滑柱使用的滑孔,且滑孔和滑柱呈间隙配合。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述过滤筒的外部位于滤网的一侧呈水平连通有集渣管,且集渣管的开口端外侧套接有密封盖。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述多组阻流叶片的底部位于滤网的上方均安装有塑胶刷板,且塑胶刷板的底端外表壁与滤网的顶端外表壁相互贴合。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述排液管的内部中心处呈水平滑嵌有贯穿排液管的调节板,且调节板的内部中心处开设有排液孔。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述隔板和调节板的外端面均安装有把手。
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