[实用新型]一种射频等离子体氧化氮化设备

权利要求书

1.一种射频等离子体氧化氮化设备，其特征在于，包括射频离子源、真空腔体、气路系统、水路系统和电控系统，所述射频离子源固定在真空腔体一端，射频离子源上设置进气口、进水口和出水口，射频离子源上设置射频线圈和磁场线圈，在真空腔体达到一定的真空度时，通入气体，启动射频离子源即可由射频离子源产生的射频等离子体；

所述水路系统设置在包含射频离子源的真空腔体的一侧；所述电控系统设置在所述水路系统的另一侧，将电控系统、水路系统和射频离子源划分成独立的区域；

所述气路系统包括气体管道、气体气瓶和质量流量控制器，所述射频离子源上的进气口通过气体管道连接至气体气瓶，在气体管道上接有质量流量控制器控制气体流量；

所述水路系统包括水循环系统和导水管，进水口和出水口通过导水管接通水循环系统对射频离子源进行冷却。

2.根据权利要求1所述的一种射频等离子体氧化氮化设备，其特征在于，所述真空腔体上接有机械泵和分子泵对真空腔体抽真空，以使射频离子源达到所需的工作压力。

3.根据权利要求2所述的一种射频等离子体氧化氮化设备，其特征在于，所述水循环系统包括热交换器。

4.根据权利要求3所述的一种射频等离子体氧化氮化设备，其特征在于，所述真空腔体内装有放置待处理零部件的基片架、以及基片架连接杆和基片架连接底座，基片架上开有置片孔和基片架连接孔，待处理零部件根据其尺寸放置于基片架的置片孔上，基片架连接杆一端穿过基片架连接孔与基片架固定，基片架连接杆另一端固定在基片架连接座上，基片架连接底座固定在真空腔体侧壁上。

5.根据权利要求4所述的一种射频等离子体氧化氮化设备，其特征在于，所述电控系统包括分子泵控制电源、射频控制电源、总控制电源、流量计、压力计和直流磁场控制电源；总控制电源将380V的三相电转为220V的电源供给所需用电设备；直流磁场电源与磁场线圈连接，用于通过调节磁场线圈调节直流磁场强度；压力计连接至真空腔体用于监控测量真空腔体内真空度；流量计连接至进气口上的气体管道，用于控制通入气体流量；射频电源连接至射频线圈，以耦合放电的形式将能量输入射频线圈；分子泵电源连接至分子泵，用于分子泵的启停。