[实用新型]一种带吸收片的中子束窗有效

专利信息
申请号: 201920739926.0 申请日: 2019-05-22
公开(公告)号: CN209880178U 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: 宁常军;敬罕涛;于永积;唐靖宇;康玲;黄蔚玲;朱东辉;聂小军;刘磊;王广源;张俊嵩;贺华艳;陈佳鑫;余洁冰;王安鑫 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: G21G4/02 分类号: G21G4/02
代理公司: 44245 广州市华学知识产权代理有限公司 代理人: 谢静娜
地址: 100040 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 吸收片 低真空腔体 可调式 高真空腔体 法兰 通孔 低真空腔 第二法兰 第一法兰 中子束 快卸 链条 本实用新型 薄壁曲面 快速装卸 设备维护 体内部 相接处 窗体 顶面 伸入 下端 体内 灵活
【说明书】:

实用新型公开一种带吸收片的中子束窗,包括高真空腔体、低真空腔体和可调式吸收片组件,高真空腔体与低真空腔体之间设有薄壁曲面窗体;高真空腔体和低真空腔体的相接处,高真空腔体带有第一法兰,低真空腔体带有第二法兰,第一法兰和第二法兰之间通过第一快卸链条固定连接;低真空腔体内设有至少一组可调式吸收片组件,可调式吸收片组件的下端设置吸收片;低真空腔体的顶面设有通孔,可调式吸收片组件下端的吸收片从通孔处伸入至低真空腔体内部;通孔处,低真空腔体带有第四法兰,可调式吸收片组件上设有第三法兰,第四法兰和第三法兰之间通过第二快卸链条固定连接。本带吸收片的中子束窗使用灵活、可实现快速装卸、便于设备维护。

技术领域

本实用新型涉及散裂中子源技术领域,特别涉及一种带吸收片的中子束窗。

背景技术

在中国散裂中子源,高能质子束轰击钨靶产生中子散射,部分中子将沿入射质子束的相反方向散射,而这些散射的中子将作为白光中子源进行充分利用,称之为反角白光中子源。

反角白光中子源中子束与质子加速器的质子束都运行在真空管道中,中子束线管道与质子束线管道的真空度差别较大,且由于实验需求,中子束线管道经常要破坏真空条件暴露在大气中,因此,在反角白光中子源的束线上游设置中子束窗,以此来隔离两段具有不同真空度的真空区间,而中子束却能顺利透过中子束窗。为对中子束能谱产生特定的吸收峰,可在中子束窗下游设置不同材料的吸收片,或选择不同的吸收片材料组合。在实际使用中,由于中子束窗整台设备是放置在粒子加速器隧道中的,所以设备维护时,操作人员需要暴露在低剂量放射环境中,因此,对于该设备中关键部件的快速装卸和维护就显得尤为重要。此外,如何提高该设备中关键部件(如薄壁曲面窗体、吸收片等)的寿命及使用的灵活性,也对中子束窗有着至关重要的影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种使用灵活、可实现快速装卸、便于设备维护的带吸收片的中子束窗。

本实用新型的技术方案为:一种带吸收片的中子束窗,包括高真空腔体、低真空腔体和可调式吸收片组件,高真空腔体与低真空腔体之间设有薄壁曲面窗体;

高真空腔体和低真空腔体的相接处,高真空腔体带有第一法兰,低真空腔体带有第二法兰,第一法兰和第二法兰之间通过第一快卸链条固定连接;

低真空腔体内设有至少一组可调式吸收片组件,可调式吸收片组件的下端设置吸收片;低真空腔体的顶面设有通孔,可调式吸收片组件下端的吸收片从通孔处伸入至低真空腔体内部;通孔处,低真空腔体带有第四法兰,可调式吸收片组件上设有第三法兰,第四法兰和第三法兰之间通过第二快卸链条固定连接。

所述高真空腔体和低真空腔体的相接处,第一法兰和第二法兰的相接处均带有向外凸出的锥面凸缘;

第一快卸链条包括交替连接的链板和夹块,各夹块中部设有锥面凹槽;

第一法兰和第二法兰相接后,两个锥面凸缘嵌于各夹块的锥面凹槽内,第一快卸链条的两端通过螺栓锁紧固定,使其形成固定于第一法兰和第二法兰外周的圆环状。

所述第二快卸链条的结构与第一快卸链条的结构相同,但长度不同。与第一快卸链条的连接方式相同,第三法兰和第四法兰的相接处均带有向外凸出的锥面凸缘,第三法兰和第四法兰相接后,两个锥面凸缘嵌于第二快卸链条上各夹块的锥面凹槽内,然后再通过螺栓将第二快卸链条的两端锁紧固定,使其形成固定于第三法兰和第四法兰外周的圆环状。

上述结构中,利用法兰(包括第一法兰、第二法兰、第三法兰、第四法兰)上锥面凸缘与快卸链条(包括第一快卸链条、第二快卸链条)上夹块中锥面凹槽的配合,通过螺栓进行锁紧固定,可实现快速安装或拆卸,达到设备快速检修或维护的目的,避免工作人员长时间暴露在低剂量放射环境中。

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