[实用新型]一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备有效
申请号: | 201920753685.5 | 申请日: | 2019-05-23 |
公开(公告)号: | CN209843673U | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
发明(设计)人: | 蔡宏泉;邵如根;陈银波;王胜如 | 申请(专利权)人: | 扬州四菱电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L29/861 |
代理公司: | 32315 扬州润中专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 方玲 |
地址: | 225000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 打磨 二极管芯片 钻床 本实用新型 电子器件 整流模块 磨盘运动机构 作业环境污染 传统二极管 车间环境 加工效率 身心健康 生产效率 有效保障 转动机构 氧化层 管芯 载具 自动化 芯片 加工 制造 | ||
1.一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备,包括钻床,其特征在于:所述设备还包括管芯载具转动机构、磨盘运动机构;
所述管芯载具转动机构包括设置在钻床机座上的支承台、设有多个管芯工位的管芯载具,所述管芯载具支承在所述支承台上,并在载具步进电机的作用下可相对所述支承台台面做间隙性旋转运动;所述管芯载具的一侧设有微动开关,在所述管芯载具转动时所述微动开关启动所述磨盘运动机构;
所述磨盘运动机构包括磨盘、磨盘步进电机;所述磨盘用于打磨放置在所述管芯工位上的二极管芯片,其与钻床主轴的转动主轴固接;所述磨盘步进电机与所述微动开关电气连接,所述磨盘步进电机的转轴经丝杠使主轴支架在所述钻床主轴的轴向方向上运动,所述主轴支架与所述钻床主轴的主轴套筒固接。
2.根据权利要求1所述的一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备,其特征在于:所述钻床的主电机经变频器与所述钻床的主轴传动连接。
3.根据权利要求1或2所述的一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备,其特征在于:所述管芯载具为圆盘状,其周向设有多个镂空洞作为所述管芯工位,所述管芯载具的周边设有与所述管芯工位相同数量的防反缺口,并且所述防反缺口与所述管芯工位保持相同的节距角;所述管芯载具的一侧设有可复位的防反挡块,所述防反挡块活动连接在所述支承台上,并抵靠在所述防反缺口上,所述防反挡块在所述管芯载具转动时可触发所述微动开关的动作簧片。
4.根据权利要求3所述的一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备,其特征在于:所述防反挡块经拉伸弹簧实现复位。
5.根据权利要求3所述的一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备,其特征在于:所述支承台上设有加工成品下料洞,在所述下料洞的下方设有将加工成品引出的下料滑槽。
6.根据权利要求1或2所述的一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备,其特征在于:所述磨盘包括磨盘连接件、磨盘盘体以及固接于所述磨盘盘体底部的磨盘刀体,磨盘刀体表面为齿形交错的不平整面。
7.根据权利要求6所述的一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备,其特征在于:所述磨盘刀体呈圆形或者正多边型,其表层开设有多个相间分布的出屑凹槽。
8.根据权利要求1或2所述的一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备,其特征在于:所述支承台上还设有用于清理废屑的去屑装置。
9.根据权利要求8所述的一种自动打磨二极管芯片表层氧化层的设备,其特征在于:所述去屑装置包括设置在所述磨盘下方的环状刷体,所述环状刷体固定在所述支承台上,位于其内环位置处的支承台开设废屑排出口。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造