[实用新型]一种蚀刻机

说明书

本实用新型公开了一种蚀刻机，该种蚀刻机包括箱体、腔体、产品放置容器、真空抽取装置、氮气输送装置、二氟化氙输送装置和显示器，所述箱体前侧连接设置有腔体，腔体内放置有产品放置容器，产品放置容器底部连接有真空抽取装置，产品放置容器还连接有氮气输送装置和二氟化氙输送装置，箱体前端设有显示器，箱体内还设置有控制箱，显示器与控制箱电气连接。通过上述方式，本实用新型结构简单，能够对产品进行蚀刻处理，能够清除残留气体，保证管道内清洁，保证元器件不会受XeF2气体腐蚀；确保蚀刻的真空环境；能够均匀蚀刻产品。

技术领域

本实用新型涉及蚀刻技术领域，特别是涉及一种蚀刻机。

背景技术

“蚀刻”是将材料使用化学反映或物理撞击作用而移除的技术，XeF2即二氟化氙在压力值为4Torr时由粉末状固体变成气体，XeF2气体能够对产品表面进行蚀刻，XeF2气体有一定的腐蚀性，蚀刻完成后，会对设备元件造成一定的腐蚀，长此以往损坏设备，目前人们使用的蚀刻机主要存在结构复杂，药水不能及时排出，影响蚀刻速度，蚀刻不均匀等缺点，基于以上缺陷和不足，有必要对现有的技术予以改进，设计出一种蚀刻机。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种蚀刻机，结构简单，能够对产品进行蚀刻处理，能够清除残留气体，保证管道内清洁，保证元器件不会受XeF2气体腐蚀；确保蚀刻的真空环境；能够均匀蚀刻产品。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种蚀刻机，该种蚀刻机包括箱体、腔体、产品放置容器、真空抽取装置、氮气输送装置、二氟化氙输送装置和显示器，所述箱体前侧连接设置有腔体，腔体内放置有产品放置容器，产品放置容器底部连接有真空抽取装置，产品放置容器还连接有氮气输送装置和二氟化氙输送装置，箱体前端设有显示器，箱体内还设置有控制箱，显示器与控制箱电气连接。

优选的是，所述腔体前侧设有开关门，便于取放产品，腔体采用304不锈钢。

优选的是，所述产品放置容器由产品腔体和腔体上盖，所述产品腔体为柱形状，产品腔体内设有产品内置空间，产品腔体底部设有通气开口，产品腔体上装有与之配合使用的腔体上盖。

优选的是，所述真空抽取装置由连接管道、真空管道、真空泵和漏气阀，通气开口连接有连接管道，连接管道下端连接有水平设置的真空管道，真空管道伸出端连接有真空泵，真空管道的另一端连接有漏气阀，蚀刻完成后，漏气阀打开，处于正常气压。

优选的是，所述氮气输送装置包括氮气管道、压力调节阀、第一电磁阀、第二电磁阀和氮气进气管道，氮气管道外接氮气装置，氮气管道连接到压力调节阀，压力调节阀通过管道依次连接有第一电磁阀和第二电磁阀，第一电磁阀和第二电磁阀之间的管道通过氮气进气管道与真空管道接通。

优选的是，所述二氟化氙输送装置包括二氟化氙罐、二氟化氙管道、电磁阀和二氟化氙进气管道，所述二氟化氙罐设置于箱体内，二氟化氙罐通过二氟化氙管道连接到电磁阀，二氟化氙管道竖直设置，电磁阀通过二氟化氙进气管道连接到第一电磁阀和第二电磁阀之间的管道上，氮气进气管道位于二氟化氙进气管道上游。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

结构简单，能够对产品进行蚀刻处理；

氮气输送装置能够清除残留气体，保证管道内清洁，保证元器件不会受XeF2气体腐蚀；

真空抽取装置能够及时抽出多余气体，确保蚀刻的真空环境；

氮气输送装置和二氟化氙输送装置配合使用能够XeF2由粉末状变为气态，能够均匀蚀刻产品。

附图说明

图1为一种蚀刻机的结构示意图。

图2为一种蚀刻机的内部结构示意图。