[实用新型]一种基于反射式随机衍射片的光谱测量装置有效

专利信息
申请号: 201920761555.6 申请日: 2019-05-24
公开(公告)号: CN210293456U 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 蔡志坚;吴利;胡祖元;吴建宏 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/18;G01J3/02
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 杨慧林
地址: 215000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 反射 随机 衍射 光谱 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种基于反射式随机衍射片的光谱测量装置,其特征在于,包括:

反射式随机衍射片,所述反射式随机衍射片包括基板和镀反射膜的衍射光栅单元,所述基板上刻有多个衍射光栅单元,其中,单块所述衍射光栅单元内刻痕密度分布相同且刻痕倾斜方向相同,而任意两块所述衍射光栅单元的刻痕密度分布不同和/或刻痕倾斜方向不同;

准直聚焦元件,其位于所述反射式随机衍射片的一侧,入射光经所述准直聚焦元件照射至所述反射式随机衍射片上,经所述反射式随机衍射片反射获得零级衍射光和一级衍射光,所述零级衍射光经所述准直聚焦元件后会聚,所述一级衍射光经所述准直聚焦元件后形成散斑图案;

光探测器,其位于所述准直聚焦元件远离所述反射式随机衍射片的一侧,所述光探测器用于接收所述散斑图案。

2.如权利要求1所述的基于反射式随机衍射片的光谱测量装置,其特征在于,所述光探测器位于所述准直聚焦元件的焦平面上,入射光源位于所述准直聚焦元件的焦平面上。

3.如权利要求1所述的基于反射式随机衍射片的光谱测量装置,其特征在于,所述零级衍射光经所述准直聚焦元件后的聚焦点处与所述散斑图案之间设置有挡板。

4.如权利要求3所述的基于反射式随机衍射片的光谱测量装置,其特征在于,所述挡板为黑色挡板。

5.如权利要求1所述的基于反射式随机衍射片的光谱测量装置,其特征在于,所述准直聚焦元件为聚焦准直镜。

6.如权利要求1所述的基于反射式随机衍射片的光谱测量装置,其特征在于,所述光探测器为CCD或CMOS。

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