[实用新型]一种抗反射膜

说明书

一种抗反射膜。本实用新型是为了解决现有抗反射膜存在采用干式涂布等复杂工艺，生产效率低，生产成本较高，不适于推广应用等问题。技术要点：特征是由透明基膜、附着在所述透明基膜上的硬化层和附着在所述硬化层上的低折射层构成，所述硬化层中设置有折射率为2.1‑2.5的纳米金属氧化物颗粒，所述低折射层中设置有粒径为30‑60nm的空心二氧化硅颗粒，所述硬化层的厚度为0.5‑3μm，所述低折射层的厚度为80‑120nm。

技术领域

本实用新型涉及覆盖在液晶显示屏上的功能性薄膜，特别是一种抗反射膜。

背景技术

目前普遍使用的显示器，当其暴露于各种照明及自然光等的外光情况下，会因外光反射作用造成肉眼无法看清显示器内部所形成的图像，还会引发眼睛疲劳或头疼。抗反射膜的出现，就是借以贴附在显示器表面来降低外光反射作用，解决肉眼在光反射作用下无法看清显示器内部所形成的图像，还会引发眼睛疲劳或头疼的问题。

中国专利申请第201210097416.0号公开的一种SiO2减反射薄膜及其制备方法，其SiO2减反射薄膜，包括光伏玻璃衬底以及依次涂覆在光伏玻璃衬底上的10nm-30nm厚的第一SiO2致密层、50nm-300nm厚的SiO2纳米空心颗粒层和填充在SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒之间孔隙中的第二SiO2致密物；所述第二SiO2致密物的填充总量等同于5nm-30nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量；所述SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒的粒径为30nm～120 nm，壁厚为3nm～20nm，粒径的相对标准偏差为5%～30%。所述SiO2纳米空心颗粒层的厚度为90nm-120nm；所述第二SiO2致密物的填充总量等同于10nm-20nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量。这一方案的缺点是：采用提拉法、旋涂与喷涂等干式涂布的工艺比较复杂，比较适用于制作以玻璃为基材的光伏玻璃，比较不适用于制作以薄膜为基材的湿式涂布的抗反射膜产品，而且生产效率低，生产成本较高。

中国专利申请第200680055867.0号公开的一种用于低折射层的涂层组合物、使用其的抗反射膜以及包括所述抗反射膜的图像显示装置，其用于形成低折射率层的涂层组合物，包含：由以下化学式1表示的氟化合物、活性硅化合物、(甲基)丙烯酸酯化合物、聚合引发剂和溶剂，其中化学式1为(CH2＝CR1COO)2Rf，Rf是C1-19全氟代基团，R1是氢原子或甲基，所述化学式1中的Rf由以下化学式2表示：化学式2的Rf1是直链C1-10全氟代基团，而Rf2、Rf3、Rf4、以及 Rf5各自是直链C1-14全氟代基团，基于100重量份的所述组合物的固体含量的组合物包括：70-95重量份的由化学式1表示的所述氟化合物、0.1-15重量份的所述活性硅化合物、1-20重量份的所述(甲基)丙烯酸酯化合物、0.1-10重量份的所述聚合引发剂，所述硅化合物由以下化学式5或6表示：化学式5的彼此相同或不同的X1、X2、以及X3各自是氢或甲基，彼此相同或不同的R1和R2的至少之一是可固化活性基团，以及c是3至1000的整数，化学式6的彼此相同或不同的X1和X2各自是氢或甲基，彼此相同或不同的R1和R2中的至少之一是可固化活性基团，以及c 是3至1000的整数。其抗反射膜，包括：衬底、硬涂层、高折射率层、低折射率层，所述低折射率层由所述的组合物来形成。这一方案的缺点是：制作工艺复杂，制作成本较高，不适于推广应用。

发明内容

为了克服现有抗反射膜存在采用干式涂布等复杂工艺，生产效率低，生产成本较高，不适于推广应用的问题，本实用新型的目的是提供一种改进的抗反射膜，可以克服现有技术的缺陷。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种抗反射膜，其特征是：由透明基膜、附着在所述透明基膜上的硬化层和附着在所述硬化层上的低折射层构成，所述硬化层中设置有折射率为2.1-2.5的纳米金属氧化物颗粒，所述低折射层中设置有粒径为30-60nm的空心二氧化硅颗粒，所述硬化层的厚度为0.5-3μm，所述低折射层的厚度为80-120nm。所述硬化层和所述低折射层均由丙烯酸酯化合物、UV树脂和光起始剂混合构成。