[实用新型]投影光学系统及具有其的投影装置有效
申请号: | 201920829408.8 | 申请日: | 2019-06-03 |
公开(公告)号: | CN209728405U | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 何世峰 | 申请(专利权)人: | 歌尔科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20 |
代理公司: | 44287 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 | 代理人: | 胡海国<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 266104 山东省青岛*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投影光学系统 投影镜头 棱镜 反射镜 光源 本实用新型 第一表面 光源本体 入射光线 投影装置 中继系统 光线传输方向 反射镜反射 第二表面 显示芯片 依次相连 影响用户 出射 射出 平行 传输 携带 | ||
本实用新型公开一种投影光学系统及具有其的投影装置,所述投影光学系统沿光线传输方向依次包括光源、中继系统、显示芯片以及投影镜头,所述中继系统包括第一反射镜与第一棱镜,所述第一棱镜包括依次相连的第一表面、第二表面以及第三表面,所述光源包括光源本体与第二反射镜,所述光源本体发出的入射光线方向与所述投影镜头的出射方向相互平行,所述光源发出的入射光线依次经过所述第二反射镜以及所述第一反射镜反射后,最终从所述第一表面射出所述第一棱镜后传输至所述投影镜头。本实用新型提供一种投影光学系统及具有其的投影装置,用于解决投影光学系统尺寸较大,影响用户携带与使用的问题。
技术领域
本实用新型涉及光学成像技术领域,尤其涉及一种投影光学系统及具有其的投影装置。
背景技术
随着投影技术的发展,人们对投影装置的要求也随之提高,现有的投影装置通常具有固定的投射比,需要调节投影装置与投影幕布之间的距离来调整投影图像的大小,从而保证在投影幕布上能够获得对应尺寸大小的投影图像。现有的短焦投影装置中,通常需要在光源和镜头之间增加中继系统,使光源发出的光能够有效的进入投影镜头中,而由于投影镜头的尺寸较大,使得投影光学系统的总长度较长,从而致投影装置的尺寸偏大,影响用户的携带与使用。
实用新型内容
本实用新型提供一种投影光学系统及具有其的投影装置,旨在解决现有技术中由于投影光学系统尺寸较大,影响用户携带与使用的问题。
为实现上述目的,本实用新型提出了一种投影光学系统,所述投影光学系统沿光线传输方向依次包括光源、中继系统、显示芯片以及投影镜头,所述中继系统包括第一反射镜与第一棱镜,所述第一棱镜包括依次相连的第一表面、第二表面以及第三表面,所述第一表面与所述第二表面相互垂直;所述显示芯片设于所述第二表面远离所述第三表面的一侧,所述光源包括光源本体与第二反射镜;
所述光源本体发出的入射光线依次经过所述第二反射镜以及所述第一反射镜反射后,从所述第三表面射入所述第一棱镜,并从所述第二表面射出所述第一棱镜后传输至所述显示芯片并发生反射,所述入射光线在被所述显示芯片反射后在所述第三表面发生反射,并从所述第一表面射出所述第一棱镜后传输至所述投影镜头;
所述光源本体发出的的入射光线方向与所述投影镜头的出射方向相互平行。
可选地,所述入射光线在所述第二反射镜与所述第一反射镜的入射角均为45度。
可选地,所述中继系统还包括第一中继透镜,所述第一中继透镜设于所述第一反射镜与所述第一棱镜之间,并相对于所述第三表面倾斜设置。
可选地,所述第一中继透镜包括靠近所述第一反射镜一侧的第四表面以及靠近所述第三表面一侧的第五表面,所述第一表面与所述第二表面均为非球面结构。
可选地,所述中继系统还包括匀光元件,所述匀光元件设于所述第一反射镜与所述第二反射镜之间。
可选地,所述中继系统还包括沿光轴方向依次设置的第二中继透镜、第三中继透镜以及第四中继透镜,所述第二中继透镜、所述第三中继透镜以及所述第四中继透镜均设于所述匀光元件与所述第一反射镜之间。
可选地,所述光源本体包括第一光源、第二光源、第三光源、第一滤光片、第二滤光片以及聚光透镜,所述第一光源发出的光线通过所述第一滤光片与所述第二滤光片后传输至所述聚光透镜,所述第二光源发出的光线经过所述第一滤光片反射后,透射经过所述第二滤光片后传输至所述聚光透镜,所述第三光源发出的光线经过所述第二滤光片反射后传输至所述聚光透镜,所述聚光透镜接收所述第一光源、所述第二光源以及所述第三光源发出的光线后,将光线传输至所述第一反射镜。
可选地,所述光源还包括泵浦光源,所述泵浦光源设于所述第二滤光片远离所述第三光源的一侧,所述泵浦光源发出的光线透过所述第二滤光片传输至所述第三光源。
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